顯影是在印刷、影印、復印、曬圖等行業中，讓影像顯現的一個過程。顯影包括正顯影和反轉顯影。正顯影中顯影色粉所帶電荷的極性，與感光鼓表面靜電潛像的電荷極性是相反的，反轉顯影中感光鼓與色粉電荷極性是相同的。在復印機、打印機中顯影就是用帶電的色粉使感光鼓上的靜電潛像轉變成可見的色粉圖像的過程。顯影包括正顯影和反轉顯影。正顯影時，顯影色粉所帶電荷的極性，與感光鼓表面靜電潛像的電荷極性相反。顯影時，在感光鼓表面靜電潛像是場力的作用下，色粉被吸附在感光鼓上。靜電潛像電位越高的部分，吸附色粉的能力越強；靜電潛像電位越低的部分，吸附色粉的能力越弱。對應靜電潛像電位（電荷的多少）的不同，其吸附色粉量也就不同。多用在模擬復印機中。根據測試結果調節壓力，保證網點還原。無錫質量涂膠顯影機供應商家

壓力調整1、調整膠輥壓力根據印版的厚度范圍調節各膠輥之間的壓力，保證無竄液或竄液小顯影/水洗、水洗/涂膠、涂膠/烘干，版每次從兩膠輥出來都是干凈的調節上膠輥之間的壓力，可調節上膠的厚薄，保證上膠膠輥的硬度適應于印版，在保證上述要求的情況下，壓力盡可能小，壓力過大，增大顯影機負載，并易卡版2、調整刷輥壓力毛刷干凈柔韌，無毛刺，不劃傷版面根據測試結果調節壓力，保證網點還原壓力盡可能小，壓力大版材難通過，實地和小網點容易損失毛刷輥旋轉方向與版材前進方向相逆，有利于顯影效果無錫質量涂膠顯影機供應商家用手感覺水壓，有力，保證水洗充分。

顯影是在正性光刻膠的曝光區和負性光刻膠的非曝光區的光刻膠在顯影液中溶解，在光刻膠上形成三維圖形的一種光刻技術。技術簡介顯影是在硅片表面光刻膠中產生圖形的關鍵步驟。光刻膠上的可溶解區域被化學顯影劑溶解，將可見的島或者窗口圖形留在硅片表面。最常見的顯影方法是旋轉、噴霧、浸潤，然后顯影。硅片用去離子水沖洗后甩干。顯影過程如圖1 [1]所示，非曝光區的光刻膠由于在曝光時并未發生化學反應，在顯影時也就不會存在這樣的酸堿中和，因此非曝光區的光刻膠被保留下來。經過曝光的正膠是逐漸溶解的，中和反應只在光刻膠的表面進行，因此正膠受顯影液的影響相對比較小。對于負膠來說非曝光區的負膠在顯影液中首先形成凝膠體，然后再分解，這就使得整個負膠層都被顯影液浸透。在被顯影液浸透之后，曝光區的負膠將會膨脹變形。

5、沖版水量和水壓沖版水量和水壓調整要保證正反面水洗充分6、烘干溫度烘干溫度一般控制在50--70 ℃之間，要視干燥情況和印刷效果而定。本文的烘干**是干燥了，絕非烤版。保證顯影液循環、膠液循環、水循環順暢，無堵塞；2、定期更換顯影液，同時清洗顯影機(建議每天清洗一次)；3、定期更換過濾芯，一般每周更換一次(建議使用100u濾芯)；4、定期更換保護膠并清洗保護膠系統(建議每天一次)；5、每天擦洗膠輥(可能干凈的軟布沾顯影液擦冼)；6、定期徹底清洗膠輥，保證各膠輥之間壓力均勻(每周一次)；7、定期清洗加熱段導軌(每周一次)；8、整機清潔，表面不殘留顯影液或其它化學制劑顯影機一般由傳動系統、顯影系統、沖洗系統、烘干系統、程序控制系統等部分組成。

鐵粉是由鐵氧體構成，并在表面覆有樹脂涂層，以提供持續的摩擦起電。如果載體使用時間過長（超出其正常壽命），碳粉將在載體上結塊，導致載體的充電性能下降，出現圖像濃度降低、墨粉泄露、產生底灰等現象。碳粉是由樹脂與碳構成的。2）顯影磁輥：內部為長久磁體、外部為鋁套筒。內部的長久磁體被固定，幾片磁體分南北極安置，在與感光鼓直線方向形成磁場，當顯影套筒旋轉時，顯影套筒吸引顯影劑，因為磁體的磁場作用讓載體在鼓附近形成磁穗，通過旋轉，將使顯影套筒的磁穗掃過鼓的表面，從而將潛像顯影。涂膠顯影機通常集成了增粘、旋涂、顯影、加熱等功能模塊，能夠處理各種襯底材料和光刻膠。宜興如何涂膠顯影機廠家直銷

是由電機通過蝸輪蝸桿或鏈輪鏈條帶動傳送輥轉動，并通過對壓膠輥驅動使印版通過顯影機的各個工作環節。無錫質量涂膠顯影機供應商家

顯影偏壓顯影偏壓由高壓板產生，并施加于顯影輥，用以提供圖像對比度。例如：顯影套筒的偏壓由交流電（AC）提供，如京瓷KM-1650機器：顯影偏壓Vp-p：所施加電壓的最大值和最小值之差；固定高壓：1.6kV；Vf：頻率；一般為2.7kHz，該值根據驅動時間預設值和環境校正的不同而不同；占空比：一個周期內正電壓所占的時間比例一般為45%；Vdc：顯影偏壓290V；Vo：感光鼓表面非圖像區域（未曝光區）的電壓；VL：感光鼓表面圖像區域（曝光區）的電壓。 [2]無錫質量涂膠顯影機供應商家

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