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臺積電納米壓印測樣

來源: 發布時間:2019-12-24

EVG ® 620 NT是智能NIL ® UV納米壓印光刻系統。

用UV納米壓印能力為特色的EVG's專有SmartNIL通用掩模對準系統®技術,在100毫米范圍內。

EVG620 NT以其靈活性和可靠性而聞名,它以**小的占位面積提供了***的掩模對準技術。操作員友好型軟件,**短的掩模和模具更換時間以及有效的全球服務支持使它們成為任何研發環境(半自動批量生產)的理想解決方案。該工具支持多種標準光刻工藝,例如真空,軟,硬和接近曝光模式,以及背面對準選項。此外,該系統還為多功能配置提供了附加功能,包括鍵對準和納米壓印光刻。此外,半自動和全自動系統配置均支持EVG專有的SmartNIL技術。


EVG的納米壓印設備已使納米圖案能夠在面板尺寸比較大為第三代(550 mm x 650 mm)的基板上實現。臺積電納米壓印測樣

納米壓印光刻(NIL)技術

EVG是納米壓印光刻(NIL)設備和集成工藝的市場**供應商。EVG從19年前的研究方法中率先并掌握了NIL,并實現了從2英寸化合物半導體晶圓到300 mm晶圓甚至大面積面板的各種尺寸基板的批量生產。NIL是產生納米尺度分辨率圖案的**有前途且相當有成本效益的工藝,可用于生物MEMS,微流體,電子學以及**近各種衍射光學元件的各種商業應用。


其中EVG紫外光納米壓印系統型號包含:

EVG®610

EVG®620NT

EVG®6200NT

EVG®720

EVG®7200

EVG®7200LA

HERCULES®NIL

EVG®770

IQAligner®


熱壓納米壓抑系統型號包含:

EVG®510HE

EVG®520HE


詳細的參數,請聯系我們岱美有限公司。


海南納米壓印聯系電話EVG高達300 mm的高精度聚合物透鏡成型和堆疊設備支持晶圓級光學(WLO)的制造。

EVG ® 6200 NT特征:

頂部和底部對準能力

高精度對準臺

自動楔形補償序列

電動和程序控制的曝光間隙

支持***的UV-LED技術

**小化系統占地面積和設施要求

分步流程指導

遠程技術支持

多用戶概念(無限數量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問權限,不同的用戶界面語言)

敏捷處理和轉換工具

臺式或帶防震花崗巖臺的單機版


EVG ® 6200 NT附加功能:

鍵對準

紅外對準

智能NIL ®

μ接觸印刷技術數據

晶圓直徑(基板尺寸)

標準光刻:75至200 mm

柔軟的UV-NIL:75至200毫米

SmartNIL ®:**多至150mm

解析度:≤40 nm(分辨率取決于模板和工藝)

支持流程:軟UV-NIL&SmartNIL

®


曝光源:汞光源或紫外線LED光源

對準:軟NIL:≤±0.5 μm;SmartNIL ®:≤±3微米

自動分離:柔紫外線NIL:不支持;SmartNIL

®:支持


工作印章制作:柔軟的UV-NIL:外部;SmartNIL ®:支持


    EV集團和肖特攜手合作,證明300-MM光刻/納米壓印技術在大體積增強現實/混合現實玻璃制造中已就緒聯合工作將在EVG的NILPhotonics?能力中心開展,這是一個開放式的光刻/納米壓?。∟IL)技術創新孵化器,同時也是全球***可及的300-mm光刻/納米壓印技術線2019年8月28日,奧地利,圣弗洛里安――微機電系統(MEMS)、納米技術和半導體市場晶圓鍵合與光刻設備**供應商EV集團(EVG)***宣布,與特種玻璃和微晶玻璃領域的**技術集團肖特攜手合作,證明300-mm(12英寸)光刻/納米壓印(NIL)技術在下一代增強現實/混合現實(AR/MR)頭戴顯示設備的波導/光導制造中使用的高折射率(HRI)玻璃晶圓的大體積圖案成形已就緒。此次合作涉及EVG的專有SmartNIL?工藝和SCHOTTRealView?高折射率玻璃晶圓,將在EVG位于奧地利總部的NILPhotonics?能力中心進行。肖特將于9月4日至7日在深圳會展中心舉行的中國國際光電博覽會上展示一款采用EVGSmartNIL技術進行圖案成形的300-mmSCHOTTRealView?玻璃晶圓。300-mm和200-mmSCHOTTRealView?玻璃基板,裝配在應用SmartNIL?UV-NIL技術的EVG?HERCULES?。EVG620 NT支持多種標準光刻工藝,例如真空,軟,硬和接近曝光模式,以及背面對準選項。

IQ Aligner UV-NIL特征:

用于光學元件的微成型應用

用于全場納米壓印應用

三個**控制的Z軸,可在印模和基材之間實現出色的楔形補償

三個**控制的Z軸,用于壓印抗蝕劑的總厚度變化(TTV)控制

利用柔軟的印章進行柔軟的UV-NIL工藝

EVG專有的全自動浮雕功能

抵抗分配站集成

粘合對準和紫外線粘合功能


IQ Aligner UV-NIL技術數據:

晶圓直徑(基板尺寸):150至300毫米

解析度:≤50 nm(分辨率取決于模板和工藝)

支持流程:柔軟的UV-NIL,鏡片成型


曝光源:汞光源

對準:≤±0.5微米

自動分離:支持的

前處理:涂層:水坑點膠(可選)

迷你環境和氣候控制:可選的


工作印章制作:支持的


EVG?610/EVG?620NT /EVG?6200NT是具有紫外線納米壓印功能的通用掩模對準系統。晶圓納米壓印美元價格

SmartNIL是基于紫外線曝光的全域型壓印技術。臺積電納米壓印測樣

SmartNIL技術簡介

SmartNIL是基于紫外線曝光的全域型壓印技術,可提供功能強大的下一代光刻技術,幾乎具有無限的結構尺寸和幾何形狀功能。由于SmartNIL集成了多次使用的軟標記處理功能,因此還可以實現****的吞吐量,并具有顯著的擁有成本的優勢,同時保留了可擴展性和易于維護的操作功能。另外,主模板的壽命延長到與用于光刻的掩模相當的時間。岱美作為EVG在中國區的代理商,歡迎各位聯系我們,探討納米壓印光刻的相關知識。我們愿意與您共同進步。


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