EVG ® 620 NT特征：

頂部和底部對(duì)準(zhǔn)能力

高精度對(duì)準(zhǔn)臺(tái)

自動(dòng)楔形補(bǔ)償序列

電動(dòng)和程序控制的曝光間隙

支持***的UV-LED技術(shù)

**小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求

分步流程指導(dǎo)

遠(yuǎn)程技術(shù)支持

多用戶(hù)概念（無(wú)限數(shù)量的用戶(hù)帳戶(hù)和程序，可分配的訪問(wèn)權(quán)限，不同的用戶(hù)界面語(yǔ)言）

敏捷處理和轉(zhuǎn)換工具

臺(tái)式或帶防震花崗巖臺(tái)的單機(jī)版

EVG ® 620 NT附加功能：

鍵對(duì)準(zhǔn)

紅外對(duì)準(zhǔn)

SmartNIL

μ接觸印刷技術(shù)數(shù)據(jù)

晶圓直徑（基板尺寸）

標(biāo)準(zhǔn)光刻：比較大150毫米的碎片

柔軟的UV-NIL：比較大150毫米的碎片

SmartNIL ®：在100毫米范圍

解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：軟UV-NIL＆SmartNIL

®

曝光源：汞光源或紫外線LED光源

對(duì)準(zhǔn)：

軟NIL：≤±0.5 μm

SmartNIL ®：≤±3微米

自動(dòng)分離：柔紫外線NIL：不支持；SmartNIL

®：支持

工作印章制作：柔軟的UV-NIL：外部：SmartNIL ®：支持

EVG ? 7200是自動(dòng)SmartNIL ? UV納米壓印光刻系統(tǒng)。進(jìn)口納米壓印原理

納米壓印應(yīng)用二：面板尺寸的大面積納米壓印

EVG專(zhuān)有的且經(jīng)過(guò)大量證明的SmartNIL技術(shù)的***進(jìn)展，已使納米圖案能夠在面板尺寸比較大為Gen 3（550 mm x 650 mm）的基板上實(shí)現(xiàn)。對(duì)于不能減小尺寸的顯示器，線柵偏振器，生物技術(shù)和光子元件等應(yīng)用，至關(guān)重要的是通過(guò)增加圖案面積來(lái)提高基板利用率。 NIL已被證明是能夠在大面積上制造納米圖案的**經(jīng)濟(jì)、高 效的方法，因?yàn)樗皇芄鈱W(xué)系統(tǒng)的限制，并且可以為**小的結(jié)構(gòu)提供比較好的圖案保真度。岱美作為EVG在中國(guó)區(qū)的代理商，歡迎各位聯(lián)系我們，探討納米壓印光刻的相關(guān)知識(shí)。

河北納米壓印圖像傳感器應(yīng)用EVG ? 7200 LA是大面積SmartNIL ? UV紫外光納米壓印光刻系統(tǒng)。

NIL已被證明是在大面積上實(shí)現(xiàn)納米級(jí)圖案的相當(dāng)有成本效益的方法，因?yàn)樗皇芄鈱W(xué)光刻所需的復(fù)雜光學(xué)器件的限制，并且它可以為極小尺寸（小于100分）提供比較好圖案保真度nm）結(jié)構(gòu)。

EVG的SmartNIL是基于紫外線曝光的全場(chǎng)壓印技術(shù)，可提供功能強(qiáng)大的下一代光刻技術(shù)，幾乎具有無(wú)限的結(jié)構(gòu)尺寸和幾何形狀功能。由于SmartNIL集成了多次使用的軟標(biāo)記處理功能，因此還可以實(shí)現(xiàn)****的吞吐量，并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢(shì)，同時(shí)保留了可擴(kuò)展性和易于維護(hù)的操作。另外，主模板的壽命延長(zhǎng)到與用于光刻的掩模相當(dāng)?shù)臅r(shí)間。

新應(yīng)用程序的開(kāi)發(fā)通常與設(shè)備功能的提高緊密相關(guān)。

納米壓印應(yīng)用一：鏡片成型

晶圓級(jí)光學(xué)（WLO）的制造得到EVG高達(dá)300 mm的高精度聚合物透鏡成型和堆疊設(shè)備的支持。使用從晶片尺寸的主印模復(fù)制來(lái)的工作印模，通過(guò)軟UV壓印光刻將透鏡圖案轉(zhuǎn)移到光學(xué)聚合物材料中。EV Group提供混合和單片微透鏡成型工藝，可以輕松地適應(yīng)各種材料組合，以用于工作印模和微透鏡材料。EVG系統(tǒng)是客戶(hù)進(jìn)行大批量晶圓級(jí)鏡頭復(fù)制的優(yōu)先。岱美作為EVG在中國(guó)區(qū)的代理商，歡迎各位聯(lián)系我們，探討納米壓印光刻的相關(guān)知識(shí)。我們?cè)敢馀c您共同進(jìn)步。

EV Group的一系列高精度熱壓花系統(tǒng)是基于該公司市場(chǎng)**的晶圓鍵合技術(shù)。

    它為晶圓級(jí)光學(xué)元件開(kāi)發(fā)、原型設(shè)計(jì)和制造提供了一種獨(dú)特的方法，可以方便地接觸***研發(fā)技術(shù)與材料。晶圓級(jí)納米壓印光刻和透鏡注塑成型技術(shù)確保在如3D感應(yīng)的應(yīng)用中使用小尺寸的高 分辨率光學(xué)傳感器供應(yīng)鏈合作推動(dòng)晶圓級(jí)光學(xué)元件應(yīng)用要在下一代光學(xué)傳感器的大眾化市場(chǎng)中推廣晶圓級(jí)生產(chǎn)，先進(jìn)的粘合劑與抗蝕材料發(fā)揮著不可取代的作用。開(kāi)發(fā)先進(jìn)的光學(xué)材料，需要充分地研究化學(xué)、機(jī)械與光學(xué)特性，以及已被證實(shí)的大規(guī)模生產(chǎn)（HVM）的可擴(kuò)展性。擁有在NIL圖形壓印和抗蝕工藝方面的材料兼容性，以及自動(dòng)化模制和脫模的專(zhuān)業(yè)知識(shí)，才能在已驗(yàn)證的大規(guī)模生產(chǎn)中，以**小的形狀因子達(dá)到晶圓級(jí)光學(xué)元件的比較好性能。材料供應(yīng)商與加工設(shè)備制造商之間的密切合作，促成了工藝流程的研發(fā)與改善，確保晶圓級(jí)光學(xué)元件的高質(zhì)量和制造的可靠性。EVG和DELO的合作將支持雙方改善工藝流程與產(chǎn)品，并增強(qiáng)雙方的專(zhuān)業(yè)技能，從而適應(yīng)當(dāng)前與未來(lái)市場(chǎng)的要求。雙方的合作提供了成熟的材料與專(zhuān)業(yè)的工藝技術(shù)，并將加快新產(chǎn)品設(shè)計(jì)與原型制造的速度，為雙方的客戶(hù)保駕護(hù)航。“NILPhotonics解決方案支援中心的獨(dú)特之處是：它解決了行業(yè)內(nèi)部需要用更短時(shí)間研發(fā)產(chǎn)品的需求，同時(shí)保障比較高的保密性。納米壓印設(shè)備可用來(lái)進(jìn)行熱壓花、加壓加熱、印章、聚合物、基板、附加沖壓成型脫模。紫外光納米壓印原理

SmartNIL是基于紫外線曝光的全域型壓印技術(shù)。進(jìn)口納米壓印原理

納米壓印光刻（NIL）技術(shù)

EVG是納米壓印光刻（NIL）設(shè)備和集成工藝的市場(chǎng)**供應(yīng)商。EVG從19年前的研究方法中率先并掌握了NIL，并實(shí)現(xiàn)了從2英寸化合物半導(dǎo)體晶圓到300 mm晶圓甚至大面積面板的各種尺寸基板的批量生產(chǎn)。NIL是產(chǎn)生納米尺度分辨率圖案的**有前途且相當(dāng)有成本效益的工藝，可用于生物MEMS，微流體，電子學(xué)以及**近各種衍射光學(xué)元件的各種商業(yè)應(yīng)用。

其中EVG紫外光納米壓印系統(tǒng)型號(hào)包含：

EVG®610

EVG®620NT

EVG®6200NT

EVG®720

EVG®7200

EVG®7200LA

HERCULES®NIL

EVG®770

IQAligner®

熱壓納米壓抑系統(tǒng)型號(hào)包含：

EVG®510HE

EVG®520HE

詳細(xì)的參數(shù)，請(qǐng)聯(lián)系我們岱美有限公司。

進(jìn)口納米壓印原理

岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司位于中國(guó)(上海)自由貿(mào)易試驗(yàn)區(qū)加太路39號(hào)第五層六十五部位，交通便利，環(huán)境優(yōu)美，是一家其他型企業(yè)。是一家有限責(zé)任公司企業(yè)，隨著市場(chǎng)的發(fā)展和生產(chǎn)的需求，與多家企業(yè)合作研究，在原有產(chǎn)品的基礎(chǔ)上經(jīng)過(guò)不斷改進(jìn)，追求新型，在強(qiáng)化內(nèi)部管理，完善結(jié)構(gòu)調(diào)整的同時(shí)，良好的質(zhì)量、合理的價(jià)格、完善的服務(wù)，在業(yè)界受到寬泛好評(píng)。公司擁有專(zhuān)業(yè)的技術(shù)團(tuán)隊(duì)，具有磁記錄，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn)，測(cè)試儀器的批發(fā)等多項(xiàng)業(yè)務(wù)。岱美儀器技術(shù)服務(wù)將以真誠(chéng)的服務(wù)、創(chuàng)新的理念、***的產(chǎn)品，為彼此贏得全新的未來(lái)！