EV集團和肖特攜手合作，證明300-MM光刻/納米壓印技術在大體積增強現實/混合現實玻璃制造中已就緒聯合工作將在EVG的NILPhotonics?能力中心開展，這是一個開放式的光刻/納米壓印（NIL）技術創新孵化器，同時也是全球***可及的300-mm光刻/納米壓印技術線2019年8月28日，奧地利，圣弗洛里安――微機電系統（MEMS）、納米技術和半導體市場晶圓鍵合與光刻設備**供應商EV集團（EVG）***宣布，與特種玻璃和微晶玻璃領域的**技術集團肖特攜手合作，證明300-mm（12英寸）光刻/納米壓印（NIL）技術在下一代增強現實/混合現實（AR/MR）頭戴顯示設備的波導/光導制造中使用的高折射率（HRI）玻璃晶圓的大體積圖案成形已就緒。此次合作涉及EVG的專有SmartNIL?工藝和SCHOTTRealView?高折射率玻璃晶圓，將在EVG位于奧地利總部的NILPhotonics?能力中心進行。肖特將于9月4日至7日在深圳會展中心舉行的中國國際光電博覽會上展示一款采用EVGSmartNIL技術進行圖案成形的300-mmSCHOTTRealView?玻璃晶圓。300-mm和200-mmSCHOTTRealView?玻璃基板，裝配在應用SmartNIL?UV-NIL技術的EVG?HERCULES?。EVG ? 770是分步重復納米壓印光刻系統，使用分步重復納米壓印光刻技術，可進行有效的母版制作。研究所納米壓印自動化測量

SmartNIL是行業**的NIL技術，可對小于40 nm *的極小特征進行圖案化，并可以對各種結構尺寸和形狀進行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術相結合，可實現****的吞吐量，并具有顯著的擁有成本優勢，同時保留了可擴展性和易于維護的操作。EVG的SmartNIL兌現了納米壓印的長期前景，即納米壓印是一種用于大規模制造微米級和納米級結構的低成本，大批量替代光刻技術。

注：*分辨率取決于過程和模板

如果需要詳細的信息，請聯系我們岱美儀器技術服務有限公司。 圖像傳感器納米壓印高性價比選擇納米壓印是一種用于大規模制造微米級和納米級結構的低成本的技術，大批量替代光刻技術。

SmartNIL是行業**的NIL技術，可對小于40 nm *的極小特征進行圖案化，并可以對各種結構尺寸和形狀進行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術相結合，可實現****的吞吐量，并具有顯著的擁有成本優勢，同時保留了可擴展性和易于維護的操作。EVG的SmartNIL兌現了納米壓印的長期前景，即納米壓印是一種用于大規模制造微米級和納米級結構的低成本，大批量替代光刻技術。

*分辨率取決于過程和模板

如果需要詳細的信息，請聯系我們岱美儀器技術服務有限公司。

EVG ® 720特征：

體積驗證的壓印技術，具有出色的復制保真度

專有SmartNIL ®技術，多使用聚合物印模技術

集成式壓印，UV固化脫模和工作印模制造

盒帶到盒帶自動處理以及半自動研發模式

可選的頂部對準

可選的迷你環境

適用于所有市售壓印材料的開放平臺

從研發到生產的可擴展性

系統外殼，可實現比較好過程穩定性和可靠性技術數據

晶圓直徑（基板尺寸）

75至150毫米

解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：SmartNIL ®

曝光源：大功率LED（i線）> 400 mW /cm2

對準：可選的頂部對準

自動分離：支持的

迷你環境和氣候控制：可選的

工作印章制作：支持的

EVG高達300 mm的高精度聚合物透鏡成型和堆疊設備支持晶圓級光學（WLO）的制造。

為了優化工藝鏈，HERCULES NIL中包括多次使用的軟印章的制造，這是大批量生產的基石，不需要額外的壓印印章制造設備。作為一項特殊功能，該工具可以升級為具有ISO 3 *功能的微型環境，以確保比較低的缺 陷率和比較高質量的原版復制。

通過為大批量生產提供完整的NIL解決方案，HERCULES NIL增強了EVG在***積NIL設備解決方案中的領導地位。

*根據ISO 14644

HERCULES ® NIL特征：

批量生產**小40 nm *或更小的結構

聯合預處理（清潔/涂層/烘烤/寒意）和SmartNIL ®

體積驗證的壓印技術，具有出色的復制保真度

全自動壓印和受控的低力分離，可很大程度地重復使用工作印章

包括工作印章制造能力

高功率光源，固化時間**快

優化的模塊化平臺可實現高吞吐量

*分辨率取決于過程和模板 EVG ? 520 HE是熱壓印系統。晶圓納米壓印競爭力怎么樣

EVG的EVG ? 620 NT是智能NIL ? UV納米壓印光刻系統。研究所納米壓印自動化測量

納米壓印光刻（NIL）技術

EVG是納米壓印光刻（NIL）設備和集成工藝的市場**供應商。EVG從19年前的研究方法中率先并掌握了NIL，并實現了從2英寸化合物半導體晶圓到300 mm晶圓甚至大面積面板的各種尺寸基板的批量生產。NIL是產生納米尺度分辨率圖案的**有前途且相當有成本效益的工藝，可用于生物MEMS，微流體，電子學以及**近各種衍射光學元件的各種商業應用。

其中EVG紫外光納米壓印系統型號包含：

EVG®610

EVG®620NT

EVG®6200NT

EVG®720

EVG®7200

EVG®7200LA

HERCULES®NIL

EVG®770

IQAligner®

熱壓納米壓抑系統型號包含：

EVG®510HE

EVG®520HE

詳細的參數，請聯系我們岱美有限公司。

研究所納米壓印自動化測量

岱美儀器技術服務（上海）有限公司辦公設施齊全，辦公環境優越，為員工打造良好的辦公環境。在岱美儀器技術服務近多年發展歷史，公司旗下現有品牌岱美儀器技術服務等。公司不僅*提供專業的磁記錄、半導體、光通訊生產及測試儀器的批發、進出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關配套服務，國際貿易、轉口貿易，商務信息咨詢服務。 【依法須經批準的項目，經相關部門批準后方可開展經營活動】磁記錄、半導體、光通訊生產及測試儀器的批發、進出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關配套服務，國際貿易、轉口貿易，商務信息咨詢服務。 【依法須經批準的項目，經相關部門批準后方可開展經營活動】，同時還建立了完善的售后服務體系，為客戶提供良好的產品和服務。自公司成立以來，一直秉承“以質量求生存，以信譽求發展”的經營理念，始終堅持以客戶的需求和滿意為重點，為客戶提供良好的磁記錄，半導體，光通訊生產，測試儀器的批發，從而使公司不斷發展壯大。