EVG ® 510 HE熱壓印系統
應用：高度靈活的熱壓印系統，用于研發和小批量生產
EVG510 HE半自動熱壓印系統設計用于對熱塑性基材進行高精度壓印。該設備配置有通用壓花室以及真空和接觸力功能，并管理適用于熱壓印的全部聚合物。結合高縱橫比壓印和多種脫壓選項，提供了許多用于高質量納米圖案轉印的工藝。
EVG ® 510 HE特征：
用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印應用
自動化壓花工藝
EVG專有的**對準工藝，用于光學對準的壓印和壓印
完全由軟件控制的流程執行
閉環冷卻水供應選項
外部浮雕和冷卻站 SmartNIL技術可提供功能強大的下一代光刻技術，幾乎具有無限的結構尺寸和幾何形狀功能。陜西納米壓印優惠價格
對于壓印工藝，EVG610允許基板的尺寸從小芯片尺寸到比較大直徑150 mm。納米技術應用的配置除了可編程的高和低接觸力外，還可以包括用于印章的釋放機構。EV Group專有的卡盤設計可提供均勻的接觸力，以實現高產量的壓印，該卡盤支持軟性和硬性印模。
EVG610特征：
頂部和底部對準能力
高精度對準臺
自動楔形誤差補償機制
電動和程序控制的曝光間隙
支持***的UV-LED技術
**小化系統占地面積和設施要求
分步流程指導
遠程技術支持
多用戶概念（無限數量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權限，不同的用戶界面語言）
敏捷處理和光刻工藝之間的轉換
臺式或帶防震花崗巖臺的單機版
附加功能：
鍵對準
紅外對準
納米壓印光刻
μ接觸印刷
中國澳門納米壓印要多少錢EVG紫外光納米壓印系統還有：EVG?7200LA，HERCULES?NIL，EVG?770，IQAligner?等。
納米壓印設備哪個好？預墨印章用于將材料以明顯的圖案轉移到基材上。該技術用于表面化學的局部修飾或捕獲分子在生物傳感器制造中的精確放置。
納米壓印設備可以進行熱壓花、加壓加熱、印章、聚合物、基板、附加沖壓成型脫模。
將聚合物片或旋涂聚合物加熱到其玻璃化轉變溫度以上，從而將材料轉變為粘性狀態。然后以足夠的力將壓模壓入聚合物中。岱美作為EVG在中國區的代理商，歡迎各位聯系我們，探討納米壓印光刻的相關知識。我們愿意與您共同進步。
在EVG的NILPhotonics?解決方案支援中心，雙方合作研發用于制造光學傳感器的新材料，以及適用于大眾化市場的晶圓級光學元件。（奧地利）與WINDACH（德國），2019年11月27日――EV集團(EVG)這一全球**的為微機電系統、納米技術與半導體市場提供晶圓鍵合與光刻設備的供應商，***宣布與高科技工業粘合劑制造商DELO在晶圓級光學元件(WLO)領域開展合作。這兩家公司均在光學傳感器制造領域處于**地位。它們的合作將充分利用EVG的透鏡注塑成型與納米壓印光刻(NIL)加工設備與DELO先進的粘合劑與抗蝕材料，在工業，汽車，消費類電子產品市場開發與應用新型光學設備，例如生物特征身份認證，面部識別。目前雙方正在EVG的NILPhotonics?解決方案支援中心（位于EVG總部，奧地利Florian）以及DELO在德國Windach的總部展開合作。雙方致力于改善與加快材料研發周期。EVG的NILPhotonics解決方案支援中心為NIL供應鏈的客戶與合作伙伴提供了開放的創新孵化器，旨在通過合作來縮短創新設備與應用的研發與推廣周期。該中心的基礎設施包括**技術的潔凈室與支持NIL制造的主要步驟的設備，例如分步重復母版，透鏡模制，以及EVG的SmartNIL?技術，晶圓鍵合與必要的測量設備。EVG的納米壓印光刻（NIL） - SmartNIL ? 是用于大批量生產的大面積軟UV納米壓印光刻工藝。
通過中心提供的試驗生產線基礎設施，WaveOptics將超越其客戶對下個季度的預期需求，并有一條可靠的途徑將大批量生產工藝和設備轉移至能夠大規模生產波導的指定設施適用于全球前列OEM品牌。
WaveOptics與EVG的合作突顯了其致力于以可實現的價格提供高性能，商用波導來幫助客戶將AR顯示器推向市場的承諾。利用EVG在批量生產設備和工藝技術方面的專業知識，到2019年，AR終端用戶產品將以不到600美元的價格進入市場，這是當今行業中的*低價位。 EVG系統是客戶進行大批量晶圓級鏡頭復制（制造）的***選擇。EVG520 HE納米壓印美元報價
EVG ? 6200 NT是SmartNIL UV紫外光納米壓印光刻系統。陜西納米壓印優惠價格
HERCULES ® NIL完全模塊化和集成SmartNIL ® UV-NIL系統達300毫米
結合EVG的SmartNIL一個完全模塊化平臺®技術支持AR / VR，3D傳感器，光子和生物技術生產應用
EVG的HERCULES NIL 300 mm是一個完全集成的跟 蹤系統，將清潔，抗蝕劑涂層和烘烤預處理步驟與EVG專有的SmartNIL大面積納米壓印光刻（NIL）工藝結合在一個平臺上，用于直徑比較大為300 mm的晶圓。它是***個基于EVG的全模塊化設備平臺和可交換模塊的NIL系統，可為客戶提供比較大的自由度來配置他們的系統，以比較好地滿足其生產需求，包括200 mm和300 mm晶圓的橋接功能。
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