EVG ® 510 HE特征：
用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印應用
自動化壓花工藝
EVG專有的**對準工藝，用于光學對準的壓印和壓印
完全由軟件控制的流程執行
閉環冷卻水供應選項
外部浮雕和冷卻站
EVG ® 510 HE技術數據：
加熱器尺寸：150毫米 ，200毫米
比較大基板尺寸：150毫米，200毫米
**小基板尺寸：單芯片，100毫米
比較大接觸力：10、20、60 kN
比較高溫度：標準：350°C；可選：550°C
夾盤系統/對準系統
150毫米加熱器：EVG ® 610，EVG ® 620，EVG ® 6200
200毫米加熱器：EVG ® 6200，MBA300，的Smart View ® NT
真空：
標準：0.1毫巴
可選：0.00001 mbar
EVG ? 770是分步重復納米壓印光刻系統，使用分步重復納米壓印光刻技術，可進行有效的母版制作。EVG720納米壓印國內代理
對于壓印工藝，EVG610允許基板的尺寸從小芯片尺寸到比較大直徑150 mm。納米技術應用的配置除了可編程的高和低接觸力外，還可以包括用于印章的釋放機構。EV Group專有的卡盤設計可提供均勻的接觸力，以實現高產量的壓印，該卡盤支持軟性和硬性印模。
EVG610特征：
頂部和底部對準能力
高精度對準臺
自動楔形誤差補償機制
電動和程序控制的曝光間隙
支持***的UV-LED技術
**小化系統占地面積和設施要求
分步流程指導
遠程技術支持
多用戶概念（無限數量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權限，不同的用戶界面語言）
敏捷處理和光刻工藝之間的轉換
臺式或帶防震花崗巖臺的單機版
附加功能：
鍵對準
紅外對準
納米壓印光刻
μ接觸印刷
福建納米壓印國內用戶 EVG?770可用于連續重復的納米壓印光刻技術，可進行有效的母版制作。
納米壓印光刻設備-處理結果：
新應用程序的開發通常與設備功能的提高緊密相關。 EVG的NIL解決方案能夠產生具有納米分辨率的多種不同尺寸和形狀的圖案，并在顯示器，生物技術和光子應用中實現了許多新的創新。HRI SmartNIL®壓印上的單個像素的1.AFM圖像壓印全息結構的AFM圖像
資料來源：EVG與SwissLitho
AG合作（歐盟項目SNM）
2.通過熱壓花在PMMA中復制微流控芯片
資料來源：EVG
3.高縱橫比（7：1）的10 μm柱陣列
由加拿大國家研究委 員會提供
4.L / S光柵具有優化的殘留層，厚度約為10 nm
資料來源：EVG
5.紫外線成型鏡片300 μm
資料來源：EVG
6.光子晶體用于LED的光提取
多晶硅的蜂窩織構化（mc-Si）
由Fraunhofer ISE提供
7.金字塔形結構50 μm
資料來源：EVG
8.**小尺寸的光模塊晶圓級封裝
資料來源：EVG
9.光子帶隙傳感器光柵
資料來源：EVG（歐盟Saphely項目）
10.在強光照射下對HRISmartNIL®烙印進行完整的晶圓照相
資料來源：EVG
EVG610特征：
頂部和底部對準能力
高精度對準臺
自動楔形誤差補償機制
電動和程序控制的曝光間隙
支持***的UV-LED技術
**小化系統占地面積和設施要求
分步流程指導
遠程技術支持
多用戶概念（無限數量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權限，不同的用戶界面語言）
敏捷處理和光刻工藝之間的轉換
臺式或帶防震花崗巖臺的單機版
EVG610附加功能：
鍵對準
紅外對準
納米壓印光刻
μ接觸印刷
EVG610技術數據：
晶圓直徑（基板尺寸）
標準光刻：比較大150毫米的碎片
柔軟的UV-NIL：比較大150毫米的碎片
解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）
支持流程：柔軟的UV-NIL
曝光源：汞光源或紫外線LED光源
自動分離：不支持
工作印章制作：外部
岱美儀器代理的SmartNIL是一項關鍵的啟用技術，可用于顯示器，生物技術和光子應用中的許多新創新。
EVG ® 610 紫外線納米壓印光刻系統
具有紫外線納米壓印功能的通用研發掩膜對準系統，從碎片到比較大150毫米。
該工具支持多種標準光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，并且可以選擇背面對準。此外，該系統還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對準和納米壓印光刻（NIL）。EVG610提供快速的處理和重新安裝工具，以改變用戶需求，光刻和NIL之間的轉換時間*為幾分鐘。其先進的多用戶概念可以適應從初學者到**級別的所有需求，因此使其成為大學和研發應用程序的理想選擇。
EV Group能夠提供混合和單片微透鏡成型工藝。芯片納米壓印售后服務
EVG ? 720是自動SmartNIL ? UV紫外光納米壓印光刻系統。EVG720納米壓印國內代理
EVG ® 770特征：
微透鏡用于晶片級光學器件的高 效率制造主下降到納米結構為SmartNIL ®
簡單實施不同種類的大師
可變抗蝕劑分配模式
分配，壓印和脫模過程中的實時圖像
用于壓印和脫模的原位力控制
可選的光學楔形誤差補償
可選的自動盒帶間處理
EVG ® 770技術數據：
晶圓直徑（基板尺寸）：100至300毫米
解析度：≤50 nm（分辨率取決于模板和工藝）
支持流程：柔軟的UV-NIL
曝光源：大功率LED（i線）> 100 mW /cm2
對準：頂側顯微鏡，用于實時重疊校準≤±500 nm和精細校準≤±300 nm
較早印刷模具到模具的放置精度：≤1微米
有效印記區域：長達50 x 50毫米
自動分離：支持的
前處理：涂層：液滴分配（可選）
EVG720納米壓印國內代理
岱美儀器技術服務（上海）有限公司是一家磁記錄、半導體、光通訊生產及測試儀器的批發、進出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關配套服務，國際貿易、轉口貿易，商務信息咨詢服務。 【依法須經批準的項目，經相關部門批準后方可開展經營活動】磁記錄、半導體、光通訊生產及測試儀器的批發、進出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關配套服務，國際貿易、轉口貿易，商務信息咨詢服務。 【依法須經批準的項目，經相關部門批準后方可開展經營活動】的公司，是一家集研發、設計、生產和銷售為一體的專業化公司。岱美儀器技術服務擁有一支經驗豐富、技術創新的專業研發團隊，以高度的專注和執著為客戶提供磁記錄，半導體，光通訊生產，測試儀器的批發。岱美儀器技術服務致力于把技術上的創新展現成對用戶產品上的貼心，為用戶帶來良好體驗。岱美儀器技術服務始終關注儀器儀表市場，以敏銳的市場洞察力，實現與客戶的成長共贏。