為了優化工藝鏈,HERCULES NIL中包括多次使用的軟印章的制造,這是大批量生產的基石,不需要額外的壓印印章制造設備。作為一項特殊功能,該工具可以升級為具有ISO 3 *功能的微型環境,以確保比較低的缺 陷率和比較高質量的原版復制。
通過為大批量生產提供完整的NIL解決方案,HERCULES NIL增強了EVG在***積NIL設備解決方案中的領導地位。
*根據ISO 14644
HERCULES ® NIL特征:
批量生產**小40 nm *或更小的結構
聯合預處理(清潔/涂層/烘烤/寒意)和SmartNIL ®
體積驗證的壓印技術,具有出色的復制保真度
全自動壓印和受控的低力分離,可很大程度地重復使用工作印章
包括工作印章制造能力
高功率光源,固化時間**快
優化的模塊化平臺可實現高吞吐量
*分辨率取決于過程和模板 EVG的納米壓印光刻(NIL) - SmartNIL ? 是用于大批量生產的大面積軟UV納米壓印光刻工藝。湖南納米壓印競爭力怎么樣
EVG ® 520 HE特征:
用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印和納米壓印應用
自動化壓花工藝
EVG專有的**對準工藝,用于光學對準的壓印和壓印
氣動壓花選項
軟件控制的流程執行
EVG ® 520 HE技術數據
加熱器尺寸:150毫米,200毫米
比較大基板尺寸:150毫米,200毫米
**小基板尺寸:單芯片,100毫米
比較大接觸力:10、20、60、100 kN
比較高溫度:標準:350°C;可選:550°C
粘合卡盤系統/對準系統
150毫米加熱器:EVG ® 610,EVG ® 620,EVG ® 6200
200毫米加熱器:EVG ® 6200,MBA300,的Smart View ® NT
真空:
標準:0.1毫巴
可選:0.00001 mbar 晶片納米壓印競爭力怎么樣HERCULES NIL 300 mm提供市場上**納米壓印功能,具有較低的力和保形壓印,快速高功率曝光和平滑壓模分離。
IQ Aligner UV-NIL 自動化紫外線納米壓印光刻系統
應用:用于晶圓級透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印系統
IQ Aligner UV-NIL系統允許使用直徑從150 mm至300 mm的壓模和晶片進行微成型和納米壓印工藝,非常適合高度平行地制造聚合物微透鏡。該系統從從晶圓尺寸的主圖章復制的軟性圖章開始,提供了混合和整體式微透鏡成型工藝,可以輕松地將其與工作圖章和微透鏡材料的各種材料組合相適應。此外,EV Group提供合格的微透鏡成型工藝,包括所有相關的材料專業知識。EV Group專有的卡盤設計可為高產量大面積印刷提供均勻的接觸力。配置包括從壓印基材上釋放印章的釋放機制。
EVG ® 6200 NT特征:
頂部和底部對準能力
高精度對準臺
自動楔形補償序列
電動和程序控制的曝光間隙
支持***的UV-LED技術
**小化系統占地面積和設施要求
分步流程指導
遠程技術支持
多用戶概念(無限數量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問權限,不同的用戶界面語言)
敏捷處理和轉換工具
臺式或帶防震花崗巖臺的單機版
EVG ® 6200 NT附加功能:
鍵對準
紅外對準
智能NIL ®
μ接觸印刷技術數據
晶圓直徑(基板尺寸)
標準光刻:75至200 mm
柔軟的UV-NIL:75至200毫米
SmartNIL ®:**多至150mm
解析度:≤40 nm(分辨率取決于模板和工藝)
支持流程:軟UV-NIL&SmartNIL
®
曝光源:汞光源或紫外線LED光源
對準:軟NIL:≤±0.5 μm;SmartNIL ®:≤±3微米
自動分離:柔紫外線NIL:不支持;SmartNIL
®:支持
工作印章制作:柔軟的UV-NIL:外部;SmartNIL ®:支持
納米壓印設備哪個好?預墨印章可用于將材料以明顯的圖案轉移到基材上。
SmartNIL是行業**的NIL技術,可對小于40 nm *的極小特征進行圖案化,并可以對各種結構尺寸和形狀進行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術相結合,可實現****的吞吐量,并具有顯著的擁有成本優勢,同時保留了可擴展性和易于維護的操作。EVG的SmartNIL兌現了納米壓印的長期前景,即納米壓印是一種用于大規模制造微米級和納米級結構的低成本,大批量替代光刻技術。
注:*分辨率取決于過程和模板
如果需要詳細的信息,請聯系我們岱美儀器技術服務有限公司。 高 效,強大的SmartNIL工藝提供高圖案保真度,擁有高度均勻圖案層和**少殘留層,易于擴展的晶圓尺寸和產量。中國香港納米壓印競爭力怎么樣
岱美作為EVG在中國區的代理商,歡迎各位聯系我們,探討納米壓印光刻的相關知識。湖南納米壓印競爭力怎么樣
UV納米壓印光刻系統
EVG®610/EVG®620NT /EVG®6200NT:具有紫外線納米壓印功能的通用掩模對準系統
■高精度對準臺
■自動楔形誤差補償機制
■電動和程序控制的曝光間隙
■支持***的UV-LED技術
■**小化系統占地面積和設施要求
EVG®720/EVG®7200/EVG®7200LA:自動化的全場納米壓印解決方案,適用于第3代基材
■體積驗證的壓印技術,具有出色的復制保真度
■專有的SmartNIL®技術和多用途聚合物印章技術
■集成式壓印,UV固化,脫模和工作印模制作
■盒帶間自動處理以及半自動研發模式
■適用于所有市售壓印材料的開放平臺
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