輪廓儀的性能

測量模式 ：

移相干涉（PSI），白光垂直掃描干涉（VSI），單色光垂直掃描干涉（CSI）

樣 品 臺 ：

150mm/200mm/300mm 樣品臺（可選配）

XY 平移：±25mm/150mm/200mm/300mm，傾斜：±5°

可選手動/電動樣品臺

CCD 相機像素：

標配：1280×960

視場范圍：

560×750um（10×物鏡）

具體視場范圍取決于所配物鏡及 CCD 相機

光學系統：

同軸照明無限遠干涉成像系統

光 源：

高 效 LED

Z 方向聚焦 80mm 手動聚焦（可選電動聚焦）

Z 方向掃描范圍 精密 PZT 掃描(可選擇高精密機械掃描，拓展達 10mm )

縱向分辨率 ＜0.1nm

RMS 重復性* 0.005nm，1σ

臺階測量** 準確度 ≤0.75％；重復性 ≤0.1%，1σ

橫向分辨率 ≥0.35um（100 倍物鏡）

檢測速度 ≤ 35um/sec , 與所選的 CCD NanoX-8000隔振系統：集成氣浮隔振 + 大理石基石。安徽掩模對準輪廓儀

輪廓儀的物鏡知多少?  

白光干涉輪廓儀是基于白光干涉原理，以三維非接觸時方法測量分析樣片表面形貌的關鍵參數和尺寸，典型結果包括：

表面形貌（粗糙度，平面度，平行度，臺階高度，錐角等）

幾何特征（關鍵孔徑尺寸，曲率半徑，特征區域的面積和集體，特征圖形的位置和數量等）

白光干涉系統基于無限遠顯微鏡系統，通過干涉物鏡產生干涉條紋，使基本的光學顯微鏡系統變為白光干涉儀。  

因此物鏡是輪廓儀****的部件，

物鏡的選擇根據功能和檢測的精度提出需求，為了滿足各種精度的需求，需要提供各種物鏡，例如標配的10×， 還有2.5×，5×，20×，50×，100×，可選。  

不同的鏡頭價格有很大的差別，因此需要量力根據需求選配對應的鏡頭哦。

輪廓儀在晶圓的IC封裝中的應用：

晶圓的IC制造過程可簡單看作是將光罩上的電路圖通過UV刻蝕到鍍膜和感光層后的硅晶圓上這一過程，其中由于光罩中電路結構尺寸極小，任何微小的黏附異物和下次均會導致制造的晶圓IC表面存在缺 陷，因此必須對光罩和晶圓的表面輪廓進行檢測，檢測相應的輪廓尺寸。 輪廓測量輪廓儀推薦型號NanoX-8000 的XY 平臺比較大移動速度：200mm/s 。

輪廓儀是一種兩坐標測量儀器，儀器傳感器相對被測工件表而作勻速滑行，傳感器的觸針感受到被測表而的幾何變化，在X和Z方向分別采樣，并轉換成電信號，該電信號經放大和處理，再轉換成數字信號儲存在計算機系統的存儲器中，計算機對原始表而輪廓進行數字濾波，分離掉表而粗糙度成分后再進行計算，測量結果為計算出的符介某種曲線的實際值及其離基準點的坐標，或放大的實際輪廓曲線，測量結果通過顯示器輸出，也可由打印機輸出。（來自網絡）

輪廓儀在集成電路的應用：

封**ump測量  

視場：72*96（um）物鏡：干涉50X 檢測位置：樣品局部

面減薄表面粗糙度分析

封裝：300mm硅片背面減薄表面粗糙度分析  面粗糙度分析：2D, 3D顯示；線粗糙度分析：Ra, Ry，Rz，…

器件多層結構臺階高  MEMS 器件多層結構分析、工藝控制參數分析

激光隱形切割工藝控制  世界***的能夠實現激光槽寬度、深度自動識別和數據自動生成，**地縮

短了激光槽工藝在線檢測的時間，避免人工操作帶來的一致性，可靠性問題

NanoX-8000輪廓儀的自動化系統主要配置 ：

? XY比較大行程650*650mm

? 支持415*510mm/510*610mm兩種尺寸

? XY光柵分辨率 0.1um，定位精度 5um，重復精度

1um

? XY 平臺比較大移動速度：200mm/s

? Z 軸聚焦：100mm行程自動聚焦，0.1um移動步進

? 隔振系統：集成氣浮隔振 + 大理石基石

? 配置真空臺面

? 配置Barcode 掃描板邊二維碼，可自動識別產品信息

? 主設備尺寸：1290(W)x1390(D)x2190(H) mm

如果想要了解更加詳細的產品信息，請聯系我們岱美儀器技術服務有限公司。 200到400個共焦圖像通常在幾秒內被捕獲，之后軟件從共焦圖像的堆棧重建精確的三維高度圖像。

輪廓儀在集成電路的應用

封**ump測量  

視場：72*96（um）物鏡：干涉50X 檢測位置：樣品局部

面減薄表面粗糙度分析

封裝：300mm硅片背面減薄表面粗糙度分析  面粗糙度分析：2D, 3D顯示；線粗糙度分析：Ra, Ry，Rz，…

器件多層結構臺階高  MEMS 器件多層結構分析、工藝控制參數分析

激光隱形切割工藝控制  世界***的能夠實現激光槽寬度、深度自動識別和數據自動生成，**地縮

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歡迎咨詢。 配置Barcode 掃描板邊二維碼，可自動識別產品信息。粗糙度儀輪廓儀用途

光學系統：同軸照明無限遠干涉成像系統。安徽掩模對準輪廓儀

    超納輪廓儀的主設計簡介:

中組部第十一批“****”****，美國KLA-Tencor（集成電路行業檢測設備市場的**企業）***研發總監，干涉測量技術**美國上市公司ADE-Phaseift的總研發工程師，創造多項干涉測量數字化所需的關鍵算法，在光測領域發表23個美國專利和35篇學術論文3個研發的產品獲得大獎，國家教育部***批公派研究生,83年留學美國。光學輪廓儀可廣泛應用于各類精密工件表面質量要求極高的如：半導體、微機電、納米材料、生物醫療、精密涂層、科研院所、航空航天等領域?？梢哉f只要是微型范圍內重點部位的納米級粗糙度、輪廓等參數的測量，除了三維光學輪廓儀，沒有其它的儀器設備可以達到其精度要求。（網絡）。 安徽掩模對準輪廓儀

岱美儀器技術服務（上海）有限公司是一家磁記錄、半導體、光通訊生產及測試儀器的批發、進出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關配套服務，國際貿易、轉口貿易，商務信息咨詢服務。 【依法須經批準的項目，經相關部門批準后方可開展經營活動】磁記錄、半導體、光通訊生產及測試儀器的批發、進出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關配套服務，國際貿易、轉口貿易，商務信息咨詢服務。 【依法須經批準的項目，經相關部門批準后方可開展經營活動】的公司，致力于發展為創新務實、誠實可信的企業。岱美儀器技術服務深耕行業多年，始終以客戶的需求為向導，為客戶提供***的磁記錄，半導體，光通訊生產，測試儀器的批發。岱美儀器技術服務不斷開拓創新，追求出色，以技術為先導，以產品為平臺，以應用為重點，以服務為保證，不斷為客戶創造更高價值，提供更優服務。岱美儀器技術服務創始人陳玲玲，始終關注客戶，創新科技，竭誠為客戶提供良好的服務。