白光干涉輪廓儀對比激光共聚焦輪廓儀

白光干涉3D顯微鏡：

干涉面成像，

多層垂直掃描

比較好高度測量精度：< 1nm

高度精度不受物鏡影響

性價比好

激光共聚焦3D顯微鏡：

點掃描合成面成像，

多層垂直掃描

Keyence（日本）

比較好高度測量精度：～10nm

高度精度由物鏡決定，1um精度@10倍

90萬-130萬

三維光學輪廓儀采用白光軸向色差原理（性能優(yōu)于白光干涉輪廓儀與激光干涉輪廓儀）對樣品表面進行快速、重復性高、高 分辨率的三維測量，測量范圍可從納米級粗糙度到毫米級的表面形貌，臺階高度，給MEMS、半導體材料、太陽能電池、醫(yī)療工程、制藥、生物材料，光學元件、陶瓷和先進材料的研發(fā)和生產(chǎn)提供了一個精確的、價格合理的計量方案。（來自網(wǎng)絡） 反射光通過MPD的***減小到聚焦的部分落在CCD相機上。二維輪廓儀供應商

    比較橢圓偏振儀和光譜反射儀光譜橢圓偏振儀(SE)和光譜反射儀(SR)都是利用分析反射光確定電介質(zhì)，半導體，和金屬薄膜的厚度和折射率。兩者的主要區(qū)別在于橢偏儀測量小角度從薄膜反射的光,而光譜反射儀測量從薄膜垂直反射的光。獲取反射光譜指南入射光角度的不同造成兩種技術(shù)在成本，復雜度，和測量能力上的不同。由于橢偏儀的光從一個角度入射，所以一定要分析反射光的偏振和強度，使得橢偏儀對超薄和復雜的薄膜堆有較強的測量能力。然而，偏振分析意味著需要昂貴的精密移動光學儀器。光譜反射儀測量的是垂直光，它忽略偏振效應（絕大多數(shù)薄膜都是旋轉(zhuǎn)對稱）。因為不涉及任何移動設(shè)備，光譜反射儀成為簡單低成本的儀器。光譜反射儀可以很容易整合加入更強大透光率分析。從下面表格可以看出,光譜反射儀通常是薄膜厚度超過10um的優(yōu)先，而橢偏儀側(cè)重薄于10nm的膜厚。在10nm到10um厚度之間，兩種技術(shù)都可用。而且具有快速，簡便，成本低特點的光譜反射儀通常是更好的選擇。光譜反射率光譜橢圓偏振儀厚度測量范圍1nm-1mm(非金屬)-50nm(金屬)*-(非金屬)-50nm(金屬)測量折射率的厚度要求>20nm(非金屬)5nm-50nm(金屬)>5nm(非金屬)>。ADE輪廓儀試用由于光罩中電路結(jié)構(gòu)尺寸極小，任何微小的黏附異物和下次均會導致制造的晶圓IC表面存在缺 陷。

輪廓儀，能描繪工件表面波度與粗糙度，并給出其數(shù)值的儀器，采用精密氣浮導軌為直線基準。輪廓測試儀是對物體的輪廓、二維尺寸、二維位移進行測試與檢驗的儀器，作為精密測量儀器在汽車制造和鐵路行業(yè)的應用十分***。（來自網(wǎng)絡）

先進的輪廓儀集成模塊

60年世界水平半導體檢測技術(shù)研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化經(jīng)驗 

所有的關(guān)鍵硬件采用美國、德國、日本等 

PI ，納米移動平臺及控制

Nikon，干涉物鏡

NI，信號控制板和Labview64

控制軟件

TMC 隔震平臺

世界先進水平的計算機軟硬件技術(shù)平臺

VS2012/64位，.NET/C#/WPF

Intel Xeon 計算機

輪廓儀白光干涉的創(chuàng)始人：

邁爾爾遜

1852-1931

美國物理學家

曾從事光速的精密測量工作  

邁克爾遜首倡用光波波長作為長度基準。

1881年，他發(fā)明了一種用以測量微小長度，折射率和光波波長的干涉儀，邁克爾遜干涉儀。

他和美國物理學家莫雷合作，進行了***的邁克爾遜-莫雷實驗，否定了以太de 存在，為愛因斯坦建立狹義相對論奠定了基礎(chǔ)。

由于創(chuàng)制了精密的光學儀器和利用這些儀器所完成光譜學和基本度量學研究，邁克爾遜于1907年獲得諾貝爾物理學獎。 儀器運用高性能內(nèi)部抗震設(shè)計，不受外部環(huán)境影響測量的準確性。

輪廓儀產(chǎn)品應用

藍寶石拋光工藝表面粗糙度分析（粗拋與精拋比較）

高精密材料表面缺 陷超精密表面缺 陷分析，核探測

Oled 特征結(jié)構(gòu)測量，表面粗糙度  

外延片表面缺 陷檢測

硅片外延表面缺 陷檢測

散熱材料表面粗糙度分析（粗糙度控制）

生物、醫(yī)藥新技術(shù)，微流控器件

微結(jié)構(gòu)均勻性 缺 陷，表面粗糙度

移相算法的優(yōu)化和軟件系統(tǒng)的開發(fā) 本作品采用重疊平均移相干涉算法，保證了亞納米量級的測量精度；優(yōu)化軟件控制系統(tǒng)，使每次檢測時間壓縮到10秒鐘以內(nèi)，同時完善的數(shù)據(jù)評價系統(tǒng)為用戶評價產(chǎn)品面形質(zhì)量提供了方便。 自動聚焦范圍 ： ± 0.3mm。Nano X輪廓儀用途

晶圓的IC制造過程可簡單看作是將光罩上的電路圖通過UV刻蝕到鍍膜和感光層后的硅晶圓上這一過程。二維輪廓儀供應商

隨著現(xiàn)在科學技術(shù)的發(fā)展，儀器儀表行業(yè)發(fā)生了突飛猛進的發(fā)展，再加上當前計算機技術(shù)、網(wǎng)絡技術(shù)的進步和發(fā)展，組建網(wǎng)絡而構(gòu)成實用的監(jiān)控系統(tǒng)，可以提高生產(chǎn)效率和共享信息資源方向發(fā)展。當前儀器儀表行業(yè)產(chǎn)品發(fā)展呈現(xiàn)微型化、多功能化、智能化、網(wǎng)絡化四大發(fā)展趨勢。進一步提升我國儀器儀表技術(shù)和水平，有限責任公司企業(yè)要順應產(chǎn)業(yè)發(fā)展潮流，在穩(wěn)固常規(guī)品種的同時，進一步發(fā)展智能儀器儀表，提升產(chǎn)業(yè)數(shù)字化、智能化、集成化水平。伴隨移動互聯(lián)網(wǎng)的爆發(fā)式增長，如今，它已經(jīng)漸漸取代電子商務成為了整個互聯(lián)網(wǎng)產(chǎn)業(yè)增速**快的領(lǐng)域，而移動終端的入口也隨即成為了傳統(tǒng)行業(yè)的必爭之地。磁記錄，半導體，光通訊生產(chǎn)，測試儀器的批發(fā)行業(yè)進軍移動互聯(lián)網(wǎng)實現(xiàn)線上發(fā)展勢在必行。隨著中國的不斷進步，世界上只有一個救世主——市場，能救企業(yè)的只有你自己——自強，提高其他型重點競爭力才是中國制造業(yè)的獨一出路。以顯微科學儀器行業(yè)的發(fā)展與變化為例，以親身的實踐為例，毛磊認為，隨著經(jīng)濟的不斷發(fā)展，我國的環(huán)境和實力都發(fā)生了巨大變化，有了完全不同的基礎(chǔ)，這為國產(chǎn)科學儀器走向**增強了信心。二維輪廓儀供應商

岱美儀器技術(shù)服務（上海）有限公司位于中國(上海)自由貿(mào)易試驗區(qū)加太路39號第五層六十五部位，交通便利，環(huán)境優(yōu)美，是一家其他型企業(yè)。岱美儀器技術(shù)服務是一家有限責任公司企業(yè)，一直“以人為本，服務于社會”的經(jīng)營理念;“誠守信譽，持續(xù)發(fā)展”的質(zhì)量方針。公司業(yè)務涵蓋磁記錄，半導體，光通訊生產(chǎn)，測試儀器的批發(fā)，價格合理，品質(zhì)有保證，深受廣大客戶的歡迎。岱美儀器技術(shù)服務以創(chuàng)造***產(chǎn)品及服務的理念，打造高指標的服務，引導行業(yè)的發(fā)展。