EVG ® 610 紫外線納米壓印光刻系統(tǒng)

具有紫外線納米壓印功能的通用研發(fā)掩膜對準(zhǔn)系統(tǒng)，從碎片到比較大150毫米。

該工具支持多種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，并且可以選擇背面對準(zhǔn)。此外，該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對準(zhǔn)和納米壓印光刻（NIL）。EVG610提供快速的處理和重新安裝工具，以改變用戶需求，光刻和NIL之間的轉(zhuǎn)換時間*為幾分鐘。其先進(jìn)的多用戶概念可以適應(yīng)從初學(xué)者到**級別的所有需求，因此使其成為大學(xué)和研發(fā)應(yīng)用程序的理想選擇。

EV Group提供混合和單片微透鏡成型工藝，能夠輕松地適應(yīng)各種材料組合，以用于工作印模和微透鏡材料。上海氮化鎵納米壓印

納米壓印光刻設(shè)備-處理結(jié)果：

新應(yīng)用程序的開發(fā)通常與設(shè)備功能的提高緊密相關(guān)。 EVG的NIL解決方案能夠產(chǎn)生具有納米分辨率的多種不同尺寸和形狀的圖案，并在顯示器，生物技術(shù)和光子應(yīng)用中實現(xiàn)了許多新的創(chuàng)新。HRI SmartNIL®壓印上的單個像素的1.AFM圖像壓印全息結(jié)構(gòu)的AFM圖像

資料來源：EVG與SwissLitho

AG合作（歐盟項目SNM）

2.通過熱壓花在PMMA中復(fù)制微流控芯片

資料來源：EVG

3.高縱橫比（7：1）的10 μm柱陣列

由加拿大國家研究委 員會提供

4.L / S光柵具有優(yōu)化的殘留層，厚度約為10 nm

資料來源：EVG

5.紫外線成型鏡片300 μm

資料來源：EVG

6.光子晶體用于LED的光提取

多晶硅的蜂窩織構(gòu)化（mc-Si）

由Fraunhofer ISE提供

7.金字塔形結(jié)構(gòu)50 μm

資料來源：EVG

8.**小尺寸的光模塊晶圓級封裝

資料來源：EVG

9.光子帶隙傳感器光柵

資料來源：EVG（歐盟Saphely項目）

10.在強(qiáng)光照射下對HRISmartNIL®烙印進(jìn)行完整的晶圓照相

資料來源：EVG EVG610納米壓印美元價EVG ? 7200 LA是大面積SmartNIL ? UV紫外光納米壓印光刻系統(tǒng)。

    首先準(zhǔn)備一塊柔性薄膜作為彈性基底層，然后將巰基-烯預(yù)聚物旋涂在具有表面結(jié)構(gòu)的母板上，彈性薄膜壓印在巰基-烯層上，與材料均勻接觸。巰基-烯材料可以在自然環(huán)境中固化通過“點擊反應(yīng)”形成交聯(lián)聚合物，不受氧氣和水的阻聚作用。順利分離開母板后，彈性薄膜與固化后的巰基-烯層緊密連接在一起，獲得雙層結(jié)構(gòu)的復(fù)合柔性模板。由于良好的材料特性，剛性巰基-烯結(jié)構(gòu)層可以實現(xiàn)較高的分辨率。因此，利用該方法可以制備高 分辨的復(fù)合柔性模板，經(jīng)過表面防粘處理后可以作為軟壓印模板使用。該研究利用新方法制備了以PDMS和PET為彈性基底的亞100nm線寬的光柵結(jié)構(gòu)復(fù)合軟壓印模板。相關(guān)研究成果發(fā)表于《納米科技與納米技術(shù)雜志》（JournalofNanoscienceandNanotechnology）。（來自網(wǎng)絡(luò)。

EVG ® 510 HE熱壓印系統(tǒng)

應(yīng)用：高度靈活的熱壓印系統(tǒng)，用于研發(fā)和小批量生產(chǎn)

EVG510 HE半自動熱壓印系統(tǒng)設(shè)計用于對熱塑性基材進(jìn)行高精度壓印。該設(shè)備配置有通用壓花室以及真空和接觸力功能，并管理適用于熱壓印的全部聚合物。結(jié)合高縱橫比壓印和多種脫壓選項，提供了許多用于高質(zhì)量納米圖案轉(zhuǎn)印的工藝。

EVG ® 510 HE特征：

用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印應(yīng)用

自動化壓花工藝

EVG專有的**對準(zhǔn)工藝，用于光學(xué)對準(zhǔn)的壓印和壓印

完全由軟件控制的流程執(zhí)行

閉環(huán)冷卻水供應(yīng)選項

外部浮雕和冷卻站 EVG的納米壓印設(shè)備括不同的單步壓印系統(tǒng)，大面積壓印機(jī)以及用于高 效母版制作的分步重復(fù)系統(tǒng)。

IQ Aligner UV-NIL特征：

用于光學(xué)元件的微成型應(yīng)用

用于全場納米壓印應(yīng)用

三個**控制的Z軸，可在印模和基材之間實現(xiàn)出色的楔形補(bǔ)償

三個**控制的Z軸，用于壓印抗蝕劑的總厚度變化（TTV）控制

利用柔軟的印章進(jìn)行柔軟的UV-NIL工藝

EVG專有的全自動浮雕功能

抵抗分配站集成

粘合對準(zhǔn)和紫外線粘合功能

IQ Aligner UV-NIL技術(shù)數(shù)據(jù)：

晶圓直徑（基板尺寸）：150至300毫米

解析度：≤50 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：柔軟的UV-NIL，鏡片成型

曝光源：汞光源

對準(zhǔn)：≤±0.5微米

自動分離：支持的

前處理：涂層：水坑點膠（可選）

迷你環(huán)境和氣候控制：可選的

工作印章制作：支持的

SmartNIL集成多次使用的軟標(biāo)記處理功能，并具有顯著的擁有成本的優(yōu)勢，同時保留可擴(kuò)展性和易于維護(hù)的特點。碳化硅納米壓印摩擦學(xué)應(yīng)用

EVG紫外光納米壓印系統(tǒng)還有：EVG?7200LA，HERCULES?NIL，EVG?770，IQAligner?等。上海氮化鎵納米壓印

對于壓印工藝，EVG610允許基板的尺寸從小芯片尺寸到比較大直徑150 mm。納米技術(shù)應(yīng)用的配置除了可編程的高和低接觸力外，還可以包括用于印章的釋放機(jī)構(gòu)。EV Group專有的卡盤設(shè)計可提供均勻的接觸力，以實現(xiàn)高產(chǎn)量的壓印，該卡盤支持軟性和硬性印模。

EVG610特征：

頂部和底部對準(zhǔn)能力

高精度對準(zhǔn)臺

自動楔形誤差補(bǔ)償機(jī)制

電動和程序控制的曝光間隙

支持***的UV-LED技術(shù)

**小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求

分步流程指導(dǎo)

遠(yuǎn)程技術(shù)支持

多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權(quán)限，不同的用戶界面語言）

敏捷處理和光刻工藝之間的轉(zhuǎn)換

臺式或帶防震花崗巖臺的單機(jī)版

附加功能：

鍵對準(zhǔn)

紅外對準(zhǔn)

納米壓印光刻 

μ接觸印刷

上海氮化鎵納米壓印

岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司致力于儀器儀表，是一家其他型公司。公司業(yè)務(wù)涵蓋磁記錄，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn)，測試儀器的批發(fā)等，價格合理，品質(zhì)有保證。公司將不斷增強(qiáng)企業(yè)重點競爭力，努力學(xué)習(xí)行業(yè)知識，遵守行業(yè)規(guī)范，植根于儀器儀表行業(yè)的發(fā)展。在社會各界的鼎力支持下，持續(xù)創(chuàng)新，不斷鑄造***服務(wù)體驗，為客戶成功提供堅實有力的支持。