納米壓印應用一：鏡片成型

晶圓級光學（WLO）的制造得到EVG高達300 mm的高精度聚合物透鏡成型和堆疊設備的支持。使用從晶片尺寸的主印模復制來的工作印模，通過軟UV壓印光刻將透鏡圖案轉移到光學聚合物材料中。EV Group提供混合和單片微透鏡成型工藝，可以輕松地適應各種材料組合，以用于工作印模和微透鏡材料。EVG系統是客戶進行大批量晶圓級鏡頭復制的優先。岱美作為EVG在中國區的代理商，歡迎各位聯系我們，探討納米壓印光刻的相關知識。我們愿意與您共同進步。

高 效，強大的SmartNIL工藝提供高圖案保真度，擁有高度均勻圖案層和**少殘留層，易于擴展的晶圓尺寸和產量。江蘇納米壓印聯系電話

SmartNIL是一項關鍵的啟用技術，可用于顯示器，生物技術和光子應用中的許多新創新。例如，SmartNIL提供了****的全區域共形壓印，以便滿足面板基板上線柵偏振器的**重要標準。SmartNIL還非常適合對具有復雜納米結構的微流控芯片進行高精度圖案化，以支持下一代藥 物研究和醫學診斷設備的生產。此外，SmartNIL的***發展為制造具有比較高功能，**小外形尺寸和大體積創新型光子結構提供了更多的自由度，這對于實現衍射光學元件（DOE）至關重要。

特征：

體積驗證的壓印技術，具有出色的復制保真度

專有SmartNIL ®技術，多使用聚合物印模技術

經過生產驗證的分辨率低至40 nm或更小

大面積全場壓印

總擁有成本比較低

在地形上留下印記

對準能力

室溫過程

開放式材料平臺 山東晶圓納米壓印SmartNIL集成了多次使用的軟標記處理功能，因此還可以實現****的吞吐量。

EVG ® 520 HE特征：

用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印和納米壓印應用

自動化壓花工藝

EVG專有的**對準工藝，用于光學對準的壓印和壓印

氣動壓花選項

軟件控制的流程執行

EVG ® 520 HE技術數據

加熱器尺寸：150毫米，200毫米

比較大基板尺寸：150毫米，200毫米

**小基板尺寸：單芯片，100毫米

比較大接觸力：10、20、60、100 kN

比較高溫度：標準：350°C；可選：550°C

粘合卡盤系統/對準系統

150毫米加熱器：EVG ® 610，EVG ® 620，EVG ® 6200

200毫米加熱器：EVG ® 6200，MBA300，的Smart View ® NT

真空：

標準：0.1毫巴

可選：0.00001 mbar

EVG ® 770分步重復納米壓印光刻系統

分步重復納米壓印光刻技術，可進行有效的母版制作

EVG770是用于步進式納米壓印光刻的通用平臺，可用于有效地進行母版制作或對基板上的復雜結構進行直接圖案化。這種方法允許從**

大50 mm x 50 mm的小模具到比較大300 mm基板尺寸的大面積均勻復制模板。與鉆石車削或直接寫入方法相結合，分步重復刻印通常用于有效地制造晶圓級光學器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。

EVG770的主要功能包括精確的對準功能，完整的過程控制以及可滿足各種設備和應用需求的靈活性。 EVG ? 610也可以設計成紫外線納米壓印光刻系統。

納米壓印光刻（NIL） -SmartNIL ®

用于大批量生產的大面積軟UV納米壓印光刻工藝

介紹：

EVG是納米壓印光刻（NIL）的市場**設備供應商。EVG開拓了這種非常規光刻技術多年，掌握了NIL并已在不斷增長的基板尺寸上實現了批量生產。EVG的專有SmartNIL技術通過多年的研究，開發和現場經驗進行了優化，以解決常規光刻無法滿足的納米圖案要求。SmartNIL可以提供低至40 nm或更小的出色的共形烙印結果。

如果要獲得詳細信息，請聯系我們岱美儀器技術服務有限公司或者訪問官網。

IQ Aligner UV-NIL是自動化紫外線納米壓印光刻系統，是用于晶圓級透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印的系統。半導體設備納米壓印價格

分步重復刻印通常用于高 效地制造晶圓級光學器件制造或EVG的Smart NIL工藝所需的母版。江蘇納米壓印聯系電話

    納米壓印微影技術可望優先導入LCD面板領域原本計劃應用在半導體生產制程的納米壓印微影技術(Nano-ImpLithography；NIL)，現將率先應用在液晶顯示器(LCD)制程中。NIL為次世代圖樣形成技術。據ETNews報導，南韓顯示器面板企業LCD制程研發小組，未確認NIL設備實際圖樣形成能力，直接參訪海外NIL設備廠。該制程研發小組透露，若引進相關設備，將可提升面板性能。并已展開具體供貨協商。NIL是以刻印圖樣的壓印機，像蓋章般在玻璃基板上形成圖樣的制程。在基板上涂布UV感光液后，再以壓印機接觸施加壓力，印出面板圖樣。之后再經過蝕刻制程形成圖樣。NIL可在LCD玻璃基板上刻印出偏光圖樣，不需再另外貼附偏光薄膜。雖然在面板制程中需增加NIL、蝕刻制程，但省落偏光膜貼附制程，可維持同樣的生產成本。偏光膜會吸收部分光線降低亮度。若在玻璃基板上直接形成偏光圖樣，將不會發生降低亮度的情況。通常面板分辨率越高，因配線較多，較難確保開口率(ApertureRatio)。江蘇納米壓印聯系電話

岱美儀器技術服務（上海）有限公司辦公設施齊全，辦公環境優越，為員工打造良好的辦公環境。專業的團隊大多數員工都有多年工作經驗，熟悉行業專業知識技能，致力于發展岱美儀器技術服務的品牌。公司以用心服務為重點價值，希望通過我們的專業水平和不懈努力，將磁記錄、半導體、光通訊生產及測試儀器的批發、進出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關配套服務，國際貿易、轉口貿易，商務信息咨詢服務。 【依法須經批準的項目，經相關部門批準后方可開展經營活動】磁記錄、半導體、光通訊生產及測試儀器的批發、進出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關配套服務，國際貿易、轉口貿易，商務信息咨詢服務。 【依法須經批準的項目，經相關部門批準后方可開展經營活動】等業務進行到底。岱美儀器技術服務（上海）有限公司主營業務涵蓋磁記錄，半導體，光通訊生產，測試儀器的批發，堅持“質量保證、良好服務、顧客滿意”的質量方針，贏得廣大客戶的支持和信賴。