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EV Group納米壓印芯片堆疊應用

來源: 發布時間:2020-02-24

為了優化工藝鏈,HERCULES NIL中包括多次使用的軟印章的制造,這是大批量生產的基石,不需要額外的壓印印章制造設備。作為一項特殊功能,該工具可以升級為具有ISO 3 *功能的微型環境,以確保比較低的缺 陷率和比較高質量的原版復制。

通過為大批量生產提供完整的NIL解決方案,HERCULES NIL增強了EVG在***積NIL設備解決方案中的領導地位。

*根據ISO 14644


HERCULES ® NIL特征:

批量生產**小40 nm *或更小的結構

聯合預處理(清潔/涂層/烘烤/寒意)和SmartNIL ®

體積驗證的壓印技術,具有出色的復制保真度

全自動壓印和受控的低力分離,可很大程度地重復使用工作印章

包括工作印章制造能力

高功率光源,固化時間**快

優化的模塊化平臺可實現高吞吐量


*分辨率取決于過程和模板 EVG系統是客戶進行大批量晶圓級鏡頭復制(制造)的***選擇。EV Group納米壓印芯片堆疊應用

HERCULES ® NIL特征:

全自動UV-NIL壓印和低力剝離

**多300毫米的基材

完全模塊化的平臺,具有多達八個可交換過程模塊(壓印和預處理)

200毫米/ 300毫米橋接工具能力

全區域烙印覆蓋

批量生產**小40 nm或更小的結構

支持各種結構尺寸和形狀,包括3D

適用于高地形(粗糙)表面

*分辨率取決于過程和模板


HERCULES ® NIL技術數據:

晶圓直徑(基板尺寸):100至200毫米/ 200和300毫米

解析度:≤40 nm(分辨率取決于模板和工藝)

支持流程:SmartNIL ®

曝光源:大功率LED(i線)> 400 mW /cm2

對準:≤±3微米

自動分離:支持的

前處理:提供所有預處理模塊

迷你環境和氣候控制:可選的

工作印章制作:支持的


EVG620NT納米壓印應用**小外形尺寸和大體積創新型光子結構提供了更多的自由度,這對于實現衍射光學元件(DOE)至關重要。

EVG ® 520 HE特征:

用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印和納米壓印應用

自動化壓花工藝

EVG專有的**對準工藝,用于光學對準的壓印和壓印

氣動壓花選項

軟件控制的流程執行


EVG ® 520 HE技術數據

加熱器尺寸:150毫米,200毫米

比較大基板尺寸:150毫米,200毫米

**小基板尺寸:單芯片,100毫米

比較大接觸力:10、20、60、100 kN

比較高溫度:標準:350°C;可選:550°C

粘合卡盤系統/對準系統

150毫米加熱器:EVG ® 610,EVG ® 620,EVG ® 6200

200毫米加熱器:EVG ® 6200,MBA300,的Smart View ® NT

真空:

標準:0.1毫巴

可選:0.00001 mbar

IQ Aligner®:用于晶圓級透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印系統

■用于光學元件的微成型應用

■用于全場納米壓印應用

■三個**控制的Z軸,用于控制壓印光刻膠的總厚度變化(TTV),并在壓模和基材之間實現出色的楔形補償

■粘合對準和紫外線粘合功能


紫外線壓印_紫外線固化


印章

防紫外線基材

附加印記壓印納米結構分離印記

用紫外線可固化的光刻膠旋涂或滴涂基材。隨后,將壓模壓入光刻膠并在仍然接觸的情況下通過UV光交聯。

μ-接觸印刷

軟印章

基板上的材料

領取物料,物料轉移,刪除印章


EVG ? 610也可以設計成紫外線納米壓印光刻系統。

EVG610特征:

頂部和底部對準能力

高精度對準臺

自動楔形誤差補償機制

電動和程序控制的曝光間隙

支持***的UV-LED技術

**小化系統占地面積和設施要求

分步流程指導

遠程技術支持

多用戶概念(無限數量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問權限,不同的用戶界面語言)

敏捷處理和光刻工藝之間的轉換

臺式或帶防震花崗巖臺的單機版


EVG610附加功能:

鍵對準

紅外對準

納米壓印光刻 

μ接觸印刷


EVG610技術數據:

晶圓直徑(基板尺寸)

標準光刻:比較大150毫米的碎片

柔軟的UV-NIL:比較大150毫米的碎片

解析度:≤40 nm(分辨率取決于模板和工藝)

支持流程:柔軟的UV-NIL

曝光源:汞光源或紫外線LED光源

自動分離:不支持

工作印章制作:外部


EVG?610/EVG?620NT /EVG?6200NT是具有紫外線納米壓印功能的通用掩模對準系統。光學鏡頭納米壓印免稅價格

EVG ? 770是分步重復納米壓印光刻系統,使用分步重復納米壓印光刻技術,可進行有效的母版制作。EV Group納米壓印芯片堆疊應用

儀器儀表行業飛速發展一是因為我國的經濟高速穩定發展的運行;按照過去的經驗,如果GDP的增長在10%以上時,儀表行業的增長率則在26%~30%之間。二是因為我國宏觀調控對儀表行業的影響有一個滯后期,儀表往往在工程的后期才交付使用,因此,因宏觀調控政策而減少的收入對儀表行業的影響不會太大。進一步提升我國儀器儀表技術和水平,有限責任公司企業要順應產業發展潮流,在穩固常規品種的同時,進一步發展智能儀器儀表,提升產業數字化、智能化、集成化水平。工業領域轉型升級、提升發展質量等有利于儀器儀表行業的發展;**安全、社會安全、產業和信息安全等需要自主、磁記錄,半導體,光通訊生產,測試儀器的批發裝備,成為全社會共識;我們必須承認,在科學儀器上,我們跟其他地區相比,還有很大的差距。這個差距,就是我們提升的空間。合相關部門、大學和企業之力,中國的其他型必將在不遠的將來,在相關領域的基礎研究和重點光學部件研發上取得突破,產品進入世界中**水平,企業得到臺階式上升,迎頭趕上,與全球出名企業并駕齊驅。EV Group納米壓印芯片堆疊應用

岱美儀器技術服務(上海)有限公司發展規模團隊不斷壯大,現有一支專業技術團隊,各種專業設備齊全。專業的團隊大多數員工都有多年工作經驗,熟悉行業專業知識技能,致力于發展岱美儀器技術服務的品牌。公司以用心服務為重點價值,希望通過我們的專業水平和不懈努力,將磁記錄、半導體、光通訊生產及測試儀器的批發、進出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關配套服務,國際貿易、轉口貿易,商務信息咨詢服務。 【依法須經批準的項目,經相關部門批準后方可開展經營活動】磁記錄、半導體、光通訊生產及測試儀器的批發、進出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關配套服務,國際貿易、轉口貿易,商務信息咨詢服務。 【依法須經批準的項目,經相關部門批準后方可開展經營活動】等業務進行到底。誠實、守信是對企業的經營要求,也是我們做人的基本準則。公司致力于打造***的磁記錄,半導體,光通訊生產,測試儀器的批發。

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