輪廓儀的性能 

測(cè)量模式

移相干涉（PSI），白光垂直掃描干涉（VSI），單色光垂直掃描干涉（CSI）

樣 品 臺(tái)

150mm/200mm/300mm 樣品臺(tái)（可選配）

XY 平移：±25mm/150mm/200mm/300mm，傾斜：±5°

可選手動(dòng)/電動(dòng)樣品臺(tái)

CCD 相機(jī)像素

標(biāo)配：1280×960

視場(chǎng)范圍

560×750um（10×物鏡）

具體視場(chǎng)范圍取決于所配物鏡及 CCD 相機(jī)

光學(xué)系統(tǒng)

同軸照明無(wú)限遠(yuǎn)干涉成像系統(tǒng)

光 源

高 效 LED

Z 方向聚焦 80mm 手動(dòng)聚焦（可選電動(dòng)聚焦）

Z 方向掃描范圍 精密 PZT 掃描(可選擇高精密機(jī)械掃描，拓展達(dá) 10mm )

縱向分辨率 ＜0.1nm

RMS 重復(fù)性* 0.005nm，1σ

臺(tái)階測(cè)量** 準(zhǔn)確度 ≤0.75％；重復(fù)性 ≤0.1%，1σ

橫向分辨率 ≥0.35um（100 倍物鏡）

檢測(cè)速度 ≤ 35um/sec , 與所選的 CCD  共聚焦顯微鏡包括LED光源、旋轉(zhuǎn)多***盤(pán)、帶有壓電驅(qū)動(dòng)器的物鏡和CCD相機(jī)。美國(guó)輪廓儀廠家

    超納輪廓儀的主設(shè)計(jì)簡(jiǎn)介:

中組部第十一批“****”****，美國(guó)KLA-Tencor（集成電路行業(yè)檢測(cè)設(shè)備市場(chǎng)的**企業(yè)）***研發(fā)總監(jiān)，干涉測(cè)量技術(shù)**美國(guó)上市公司ADE-Phaseift的總研發(fā)工程師，創(chuàng)造多項(xiàng)干涉測(cè)量數(shù)字化所需的關(guān)鍵算法，在光測(cè)領(lǐng)域發(fā)表23個(gè)美國(guó)專(zhuān)利和35篇學(xué)術(shù)論文3個(gè)研發(fā)的產(chǎn)品獲得大獎(jiǎng)，國(guó)家教育部***批公派研究生,83年留學(xué)美國(guó)。光學(xué)輪廓儀可廣泛應(yīng)用于各類(lèi)精密工件表面質(zhì)量要求極高的如：半導(dǎo)體、微機(jī)電、納米材料、生物醫(yī)療、精密涂層、科研院所、航空航天等領(lǐng)域。可以說(shuō)只要是微型范圍內(nèi)重點(diǎn)部位的納米級(jí)粗糙度、輪廓等參數(shù)的測(cè)量，除了三維光學(xué)輪廓儀，沒(méi)有其它的儀器設(shè)備可以達(dá)到其精度要求。（網(wǎng)絡(luò)）。 晶片輪廓儀價(jià)格NanoX-8000 的XY 平臺(tái)比較大移動(dòng)速度：200mm/s 。

2）共聚焦顯微鏡方法 

共聚焦顯微鏡包括LED光源、旋轉(zhuǎn)多***盤(pán)、帶有壓電驅(qū)動(dòng)器的物鏡和CCD相機(jī)。LED光源通過(guò)多***盤(pán)（MPD）和物鏡聚焦到樣品表面上，從而反射光。反射光通過(guò)MPD的***減小到聚焦的部分落在CCD相機(jī)上。傳統(tǒng)光學(xué)顯微鏡的圖像包含清晰和模糊的細(xì)節(jié)，但是在共焦圖像中，通過(guò)多***盤(pán)的操作濾除模糊細(xì)節(jié)（未聚焦），只有來(lái)自聚焦平面的光到達(dá)CCD相機(jī)。因此，共聚焦顯微鏡能夠在納米范圍內(nèi)獲得高 分辨率。 每個(gè)共焦圖像是通過(guò)樣品的形貌的水平切片，在不同的焦點(diǎn)高度捕獲圖像產(chǎn)生這樣的圖像的堆疊，共焦顯微鏡通過(guò)壓電驅(qū)動(dòng)器和物鏡的精確垂直位移來(lái)實(shí)現(xiàn)。200到400個(gè)共焦圖像通常在幾秒內(nèi)被捕獲，之后軟件從共焦圖像的堆棧重建精確的三維高度圖像。

輪廓儀的培訓(xùn)

一、 培訓(xùn)承諾

    系統(tǒng)建成后，我公司將為業(yè)主提供為期1天的**培訓(xùn)和技術(shù)資詢(xún)；培訓(xùn)地點(diǎn)可以在我公司，亦或在工程現(xiàn)場(chǎng)；

    系統(tǒng)操作及管理人員的培訓(xùn)人數(shù)為10人，由業(yè)主指定，我公司將確保相關(guān)人員正確使用該系統(tǒng)；

1.1. 培訓(xùn)對(duì)象

    系統(tǒng)操作及管理人員（培訓(xùn)對(duì)象須具有專(zhuān)業(yè)技術(shù)的技術(shù)人員或?qū)嶋H值班操作人員）；

    其他業(yè)主指定的相關(guān)人員。

1.2. 培訓(xùn)內(nèi)容

    系統(tǒng)操作使用說(shuō)明書(shū)。

    培訓(xùn)課程的主要內(nèi)容是系統(tǒng)的操作、系統(tǒng)的相關(guān)參數(shù)設(shè)定和修改和系統(tǒng)的維修與保養(yǎng)與簡(jiǎn)單升級(jí)等，具體內(nèi)容如下：

    * 系統(tǒng)文檔解讀；

    * 系統(tǒng)的技術(shù)特點(diǎn)、安裝維護(hù)和系統(tǒng)管理方式；

    * 系統(tǒng)一般故障排除。

每個(gè)共焦圖像是通過(guò)樣品的形貌的水平切片，在不同的焦點(diǎn)高度捕獲圖像產(chǎn)生這樣的圖像的堆疊。

NanoX-系列輪廓儀**性客戶(hù)

? 集成電路相關(guān)產(chǎn)業(yè)

– 集成電路先進(jìn)封裝和材料：華天科技，通富微電子，江蘇納佩斯

半導(dǎo)體，華潤(rùn)安盛等

? MEMS相關(guān)產(chǎn)業(yè)

– 中科院蘇州納米所，中科電子46所，華東光電集成器件等

? 高 效太陽(yáng)能電池相關(guān)產(chǎn)業(yè)

– 常州億晶光電，中國(guó)臺(tái)灣速位科技、山東衡力新能源等

? 微電子、FPD、PCB等產(chǎn)業(yè)

– 三星電機(jī)、京東方、深圳夏瑞科技等  

具備 Global alignment & Unit alignment

自動(dòng)聚焦范圍 ： ± 0.3mm

XY運(yùn)動(dòng)速度 **快

如果有什么問(wèn)題，請(qǐng)聯(lián)系我們。

由于光罩中電路結(jié)構(gòu)尺寸極小，任何微小的黏附異物和下次均會(huì)導(dǎo)致制造的晶圓IC表面存在缺 陷。山東輪廓儀供應(yīng)商家

輪廓儀反映的是零件的宏觀輪廓。美國(guó)輪廓儀廠家

    比較大視場(chǎng)Thefilm3D以10倍物鏡優(yōu)異地提供更寛廣的2毫米視野，其數(shù)位變焦功能有助于緩解不同應(yīng)用時(shí)切換多個(gè)物鏡的需要，更進(jìn)一步減少總體成本。手動(dòng)式物鏡轉(zhuǎn)盤(pán)能一次搭載四組物鏡，能滿(mǎn)足需要多種倍率物鏡交替使用的測(cè)量應(yīng)用。索取技術(shù)資料索取報(bào)價(jià)性能規(guī)格厚度范圍,WSI50nm-10mm厚度范圍,PSI0-3μm樣品反射率範(fàn)圍-100 %電腦要求機(jī)械規(guī)格Z范圍100mmPiezo(壓電)范圍500μmXY平臺(tái)類(lèi)型手動(dòng)或自動(dòng)XY平臺(tái)范圍100mmx100mm相機(jī)2592x1944(5百萬(wàn)像素)系統(tǒng)尺寸，寬x深x高300mmx300mmx550mm系統(tǒng)重量15kg物鏡1(NikonCFICEpiPlan)放大倍率5X10X20X50X100X視場(chǎng)xmmxmmxmmxmmxmm采樣空間2μmμmμmμmμm1分別出售2樣本上之像素大小常見(jiàn)的選購(gòu)配件：urionNano30主動(dòng)式防震臺(tái)4微米，2微米，和100納米多臺(tái)階高度標(biāo)準(zhǔn)。美國(guó)輪廓儀廠家

岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司專(zhuān)注技術(shù)創(chuàng)新和產(chǎn)品研發(fā)，發(fā)展規(guī)模團(tuán)隊(duì)不斷壯大。一批專(zhuān)業(yè)的技術(shù)團(tuán)隊(duì)，是實(shí)現(xiàn)企業(yè)戰(zhàn)略目標(biāo)的基礎(chǔ)，是企業(yè)持續(xù)發(fā)展的動(dòng)力。公司以誠(chéng)信為本，業(yè)務(wù)領(lǐng)域涵蓋磁記錄，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn)，測(cè)試儀器的批發(fā)，我們本著對(duì)客戶(hù)負(fù)責(zé)，對(duì)員工負(fù)責(zé)，更是對(duì)公司發(fā)展負(fù)責(zé)的態(tài)度，爭(zhēng)取做到讓每位客戶(hù)滿(mǎn)意。公司深耕磁記錄，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn)，測(cè)試儀器的批發(fā)，正積蓄著更大的能量，向更廣闊的空間、更寬泛的領(lǐng)域拓展。