為了優化工藝鏈，HERCULES NIL中包括多次使用的軟印章的制造，這是大批量生產的基石，不需要額外的壓印印章制造設備。作為一項特殊功能，該工具可以升級為具有ISO 3 *功能的微型環境，以確保比較低的缺 陷率和比較高質量的原版復制。
通過為大批量生產提供完整的NIL解決方案，HERCULES NIL增強了EVG在***積NIL設備解決方案中的領導地位。
*根據ISO 14644
HERCULES ® NIL特征：
批量生產**小40 nm *或更小的結構
聯合預處理（清潔/涂層/烘烤/寒意）和SmartNIL ®
體積驗證的壓印技術，具有出色的復制保真度
全自動壓印和受控的低力分離，可很大程度地重復使用工作印章
包括工作印章制造能力
高功率光源，固化時間**快
優化的模塊化平臺可實現高吞吐量
*分辨率取決于過程和模板 SmartNIL技術可提供功能強大的下一代光刻技術，幾乎具有無限的結構尺寸和幾何形狀功能。EVG6200NT納米壓印高性價比選擇
EVG610特征：
頂部和底部對準能力
高精度對準臺
自動楔形誤差補償機制
電動和程序控制的曝光間隙
支持***的UV-LED技術
**小化系統占地面積和設施要求
分步流程指導
遠程技術支持
多用戶概念（無限數量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權限，不同的用戶界面語言）
敏捷處理和光刻工藝之間的轉換
臺式或帶防震花崗巖臺的單機版
EVG610附加功能：
鍵對準
紅外對準
納米壓印光刻
μ接觸印刷
EVG610技術數據：
晶圓直徑（基板尺寸）
標準光刻：比較大150毫米的碎片
柔軟的UV-NIL：比較大150毫米的碎片
解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）
支持流程：柔軟的UV-NIL
曝光源：汞光源或紫外線LED光源
自動分離：不支持
工作印章制作：外部
晶片納米壓印優惠價格IQ Aligner UV-NIL是自動化紫外線納米壓印光刻系統，是用于晶圓級透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印的系統。
面板廠為補償較低的開口率，多運用在背光模塊搭載較多LED的技術，但此作法的缺點是用電量較高。若運用NIL制程，可確保適當的開口率，降低用電量。利用一般曝光設備也可在玻璃基板上形成偏光膜。然8代曝光設備一次可形成的圖樣面積較小。若要制造55吋面板，需要經過數十次的曝光制程。不僅制程時間長，經過多次曝光后，在圖樣間會形成細微的縫隙，無法完整顯示影像。若將NIL技術應用在5代設備，可一次形成55吋、60吋面板的偏光膜圖樣。在8代基板可制造6片55吋面板，6次的壓印接觸可處理完1片8代基板。南韓業者表示，在玻璃基板上形成偏光圖樣以提升質量的生產制程，是LCD領域中***一個創新任務。若加速NIL制程導入LCD生產的時程，偏光膜企業的營收可能減少。（來自網絡。
EVG公司技術開發和IP總監Markus Wimplinger補充說：“我們開發新技術和工藝以應對*復雜的挑戰，幫助我們的客戶成功地將其新產品創意商業化。技術，我們創建了我們的NILPhotonics能力中心。“在具有保護客戶IP的強大政策的框架內，我們為客戶提供了從可行性到生產階段的產品開發和商業化支持。這正是我們***與AR領域的**者WaveOptics合作所要做的，以為*終客戶提供真正可擴展的解決方案。”
EVG的NILPhotonics®能力中心框架內的協作開發工作旨在支持WaveOptics的承諾，即在工業，企業和消費者等所有主要市場領域釋放AR在大眾市場的應用，并遵循公司模塊計劃的推出。 EVG?720/EVG?7200/EVG?7200LA是自動化的全場域納米壓印解決方案，適用于第3代基材。
關于WaveOptics
WaveOptics是衍射波導的全球**設計商和制造商，衍射波導是可穿戴AR設備中的關鍵光學組件。
諸如智能眼鏡之類的AR可穿戴設備使用戶能夠觀看覆蓋在現實世界之上的數字圖像。有兩個關鍵元素可讓您看到這些圖像-微型投影儀之類的光源，以及將圖像從投影儀傳遞到用戶眼睛中的一種方式。
WaveOptics的波導技術可傳輸來自光源的光波并將其投射到用戶的眼睛中。該技術可產生大的眼框，雙目觀察和高視野。眼圖框（查看窗口）是從中可以看到完整圖像的AR顯示器的尺寸-請參見下圖。WaveOptics的波導提供清晰，無失真的文本以及穩定的圖像。
WaveOptics技術旨在用于工業，企業和消費者市場的沉浸式AR體驗。該公司的目標是，憑借其獨特的技術和專業知識，其波導將成為所有AR可穿戴設備中使用的he心光學組件，以實現****的制造可擴展性和視覺性能，并為眾多應用提供多功能性。 SmartNIL的主要技術是可以提供低至40 nm或更小的出色的共形烙印結果。EVG610納米壓印當地價格
EVG?610/EVG?620NT /EVG?6200NT是具有紫外線納米壓印功能的通用掩模對準系統。EVG6200NT納米壓印高性價比選擇
NIL已被證明是在大面積上實現納米級圖案的相當有成本效益的方法，因為它不受光學光刻所需的復雜光學器件的限制，并且它可以為極小尺寸（小于100分）提供比較好圖案保真度nm）結構。
EVG的SmartNIL是基于紫外線曝光的全場壓印技術，可提供功能強大的下一代光刻技術，幾乎具有無限的結構尺寸和幾何形狀功能。由于SmartNIL集成了多次使用的軟標記處理功能，因此還可以實現****的吞吐量，并具有顯著的擁有成本優勢，同時保留了可擴展性和易于維護的操作。另外，主模板的壽命延長到與用于光刻的掩模相當的時間。
新應用程序的開發通常與設備功能的提高緊密相關。 EVG6200NT納米壓印高性價比選擇
岱美儀器技術服務（上海）有限公司致力于儀器儀表，是一家其他型的公司。岱美儀器技術服務致力于為客戶提供良好的磁記錄，半導體，光通訊生產，測試儀器的批發，一切以用戶需求為中心，深受廣大客戶的歡迎。公司秉持誠信為本的經營理念，在儀器儀表深耕多年，以技術為先導，以自主產品為重點，發揮人才優勢，打造儀器儀表良好品牌。在社會各界的鼎力支持下，持續創新，不斷鑄造***服務體驗，為客戶成功提供堅實有力的支持。