EVG ® 720自動SmartNIL
® UV納米壓印光刻系統
自動全視野的UV納米壓印溶液達150毫米，設有EVG's專有SmartNIL ®技術
EVG720系統利用EVG的創新SmartNIL技術和材料專業知識，能夠大規模制造微米和納米級結構。具有SmartNIL技術的EVG720系統能夠在大面積上印刷小至40 nm *的納米結構，具有****的吞吐量，非常適合批量生產下一代微流控和光子器件，例如衍射光學元件（ DOEs）。
*分辨率取決于過程和模板
如果需要詳細的信息，請聯系我們岱美儀器技術服務有限公司。也可以訪問官網，獲得更多信息。 EVG系統是客戶進行大批量晶圓級鏡頭復制（制造）的***選擇。光學鏡頭納米壓印用途是什么
EVG ® 510 HE是EVG500系列的熱壓印系統
EV Group的一系列高精度熱壓印系統基于該公司市場**的晶圓鍵合技術。出色的壓力和溫度控制以及大面積的均勻性可實現高精度的壓印。熱壓印是一種經濟高
效且靈活的制造技術，對于尺寸低至50 nm的特征，其復制精度非常高。該系統非常適合將復雜的微結構和納米結構以及高縱橫比的特征壓印到各種聚合物基材或旋涂聚合物中。壓模與基板對準的組合可將熱壓紋與預處理的基板結構對準。這個系列包含的型號有：EVG®510HE，EVG®520HE。 官方授權經銷納米壓印要多少錢EVG紫外光納米壓印系統還有：EVG?7200LA，HERCULES?NIL，EVG?770，IQAligner?等。
EVG ® 770特征：
微透鏡用于晶片級光學器件的高 效率制造主下降到納米結構為SmartNIL ®
簡單實施不同種類的大師
可變抗蝕劑分配模式
分配，壓印和脫模過程中的實時圖像
用于壓印和脫模的原位力控制
可選的光學楔形誤差補償
可選的自動盒帶間處理
EVG ® 770技術數據：
晶圓直徑（基板尺寸）：100至300毫米
解析度：≤50 nm（分辨率取決于模板和工藝）
支持流程：柔軟的UV-NIL
曝光源：大功率LED（i線）> 100 mW /cm2
對準：頂側顯微鏡，用于實時重疊校準≤±500 nm和精細校準≤±300 nm
較早印刷模具到模具的放置精度：≤1微米
有效印記區域：長達50 x 50毫米
自動分離：支持的
前處理：涂層：液滴分配（可選）
HERCULES NIL 300 mm提供了市場上**的納米壓印功能，具有較低的力和保形壓印，快速的高功率曝光和平滑的壓模分離。該系統支持各種設備和應用程序的生產，包括用于增強/虛擬現實（AR / VR）頭戴式耳機的光學設備，3D傳感器，生物醫學設備，納米光子學和等離激元學。
HERCULES ® NIL特征：
全自動UV-NIL壓印和低力剝離
**多300毫米的基材
完全模塊化的平臺，具有多達八個可交換過程模塊（壓印和預處理）
200毫米/ 300毫米橋接工具能力
全區域烙印覆蓋
批量生產**小40 nm或更小的結構
支持各種結構尺寸和形狀，包括3D
適用于高地形（粗糙）表面
*分辨率取決于過程和模板
EVG的納米壓印設備括不同的單步壓印系統，大面積壓印機以及用于高 效母版制作的分步重復系統。
納米壓印應用三：連續性UV納米壓印
EVG770是用于步進重復納米壓印光刻的通用平臺，可用于有效地進行母版制作或對基板上的復雜結構進行直接圖案化。這種方法允許從比較大50 mm x 50 mm的小模具到比較大300 mm基板尺寸的大面積均勻復制模板。與鉆石車削或直接寫入方法相結合，分步重復刻印通常用于高 效地制造晶圓級光學器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。岱美作為EVG在中國區的代理商，歡迎各位聯系我們，探討納米壓印光刻的相關知識。我們愿意與您共同進步。
NIL已被證明是在大面積上實現納米級圖案的相當有成本效益的方法。碳化硅納米壓印研發可以用嗎
EV Group能夠提供混合和單片微透鏡成型工藝。光學鏡頭納米壓印用途是什么
EVG ® 770分步重復納米壓印光刻系統
分步重復納米壓印光刻技術，可進行有效的母版制作
EVG770是用于步進式納米壓印光刻的通用平臺，可用于有效地進行母版制作或對基板上的復雜結構進行直接圖案化。這種方法允許從**
大50 mm x 50 mm的小模具到比較大300 mm基板尺寸的大面積均勻復制模板。與鉆石車削或直接寫入方法相結合，分步重復刻印通常用于有效地制造晶圓級光學器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。
EVG770的主要功能包括精確的對準功能，完整的過程控制以及可滿足各種設備和應用需求的靈活性。 光學鏡頭納米壓印用途是什么
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