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中芯國際納米壓印樣機試用

來源: 發布時間:2021-01-19

EVG ® 520 HE熱壓印系統

特色:經通用生產驗證的熱壓印系統,可滿足比較高要求

EVG520 HE半自動熱壓印系統設計用于對熱塑性基材進行高精度壓印。EVG的這種經過生產驗證的系統可以接受直徑比較大為200 mm的基板,并且與標準的半導體制造技術兼容。熱壓印系統配置有通用壓花腔室以及高真空和高接觸力功能,并管理適用于熱壓印的整個聚合物范圍。結合高縱橫比壓印和多種脫壓選項,提供了許多用于高質量圖案轉印和納米分辨率的工藝。


如果需要詳細的信息,請聯系我們岱美儀器技術服務有限公司。 HERCULES?NIL是完全集成的納米壓印光刻解決方案,可實現300 mm的大批量生產。中芯國際納米壓印樣機試用

HERCULES ® NIL特征:

全自動UV-NIL壓印和低力剝離

**多300毫米的基材

完全模塊化的平臺,具有多達八個可交換過程模塊(壓印和預處理)

200毫米/ 300毫米橋接工具能力

全區域烙印覆蓋

批量生產**小40 nm或更小的結構

支持各種結構尺寸和形狀,包括3D

適用于高地形(粗糙)表面

*分辨率取決于過程和模板


HERCULES ® NIL技術數據:

晶圓直徑(基板尺寸):100至200毫米/ 200和300毫米

解析度:≤40 nm(分辨率取決于模板和工藝)

支持流程:SmartNIL ®

曝光源:大功率LED(i線)> 400 mW /cm2

對準:≤±3微米

自動分離:支持的

前處理:提供所有預處理模塊

迷你環境和氣候控制:可選的

工作印章制作:支持的


高校納米壓印值得買 EVG?770可用于連續重復的納米壓印光刻技術,可進行有效的母版制作。

HERCULES®NIL:完全集成的納米壓印光刻解決方案,可實現300 mm的大批量生產

■批量生產低至40 nm的結構或更小尺寸(分辨率取決于過程和模板)

■結合了預處理(清潔/涂布/烘烤/冷卻)和SmartNIL®技術

■全自動壓印和受控的低力分離,可很大程度地重復使用工作印章

■具備工作印章制造能力


EVG®770:連續重復的納米壓印光刻技術,可進行有效的母版制作

■用于晶圓級光學器件的微透鏡的高 效母模制造,直至SmartNIL®的納米結構

■不同類型的母版的簡單實現

■可變的光刻膠分配模式

■分配,壓印和脫模過程中的實時圖像

■用于壓印和脫模的原位力控制


IQ Aligner®:用于晶圓級透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印系統

■用于光學元件的微成型應用

■用于全場納米壓印應用

■三個**控制的Z軸,用于控制壓印光刻膠的總厚度變化(TTV),并在壓模和基材之間實現出色的楔形補償

■粘合對準和紫外線粘合功能


紫外線壓印_紫外線固化


印章

防紫外線基材

附加印記壓印納米結構分離印記

用紫外線可固化的光刻膠旋涂或滴涂基材。隨后,將壓模壓入光刻膠并在仍然接觸的情況下通過UV光交聯。

μ-接觸印刷

軟印章

基板上的材料

領取物料,物料轉移,刪除印章


IQ Aligner?是EVG的可用于晶圓級透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印系統。

HERCULES NIL 300 mm提供了市場上**的納米壓印功能,具有較低的力和保形壓印,快速的高功率曝光和平滑的壓模分離。該系統支持各種設備和應用程序的生產,包括用于增強/虛擬現實(AR / VR)頭戴式耳機的光學設備,3D傳感器,生物醫學設備,納米光子學和等離激元學。


HERCULES ® NIL特征:

全自動UV-NIL壓印和低力剝離

**多300毫米的基材

完全模塊化的平臺,具有多達八個可交換過程模塊(壓印和預處理)

200毫米/ 300毫米橋接工具能力

全區域烙印覆蓋

批量生產**小40 nm或更小的結構

支持各種結構尺寸和形狀,包括3D

適用于高地形(粗糙)表面

*分辨率取決于過程和模板


EV Group 提供完整的UV 紫外光納米壓印光刻(UV-NIL)產品線。晶片納米壓印有哪些品牌

EVG?720/EVG?7200/EVG?7200LA是自動化的全場域納米壓印解決方案,適用于第3代基材。中芯國際納米壓印樣機試用

EVG ® 720特征:

體積驗證的壓印技術,具有出色的復制保真度

專有SmartNIL ®技術,多使用聚合物印模技術

集成式壓印,UV固化脫模和工作印模制造

盒帶到盒帶自動處理以及半自動研發模式

可選的頂部對準

可選的迷你環境

適用于所有市售壓印材料的開放平臺

從研發到生產的可擴展性

系統外殼,可實現比較好過程穩定性和可靠性技術數據

晶圓直徑(基板尺寸)

75至150毫米

解析度:≤40 nm(分辨率取決于模板和工藝)

支持流程:SmartNIL ®

曝光源:大功率LED(i線)> 400 mW /cm2

對準:可選的頂部對準

自動分離:支持的

迷你環境和氣候控制:可選的

工作印章制作:支持的


中芯國際納米壓印樣機試用

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