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Filmetrics F3-SX膜厚儀有誰在用

來源: 發布時間:2023-11-14

    氚燈電腦要求60mb硬盤空間50mb空閑內存usb接口電源要求100-240vac,50-60hz,a選配以下鏡頭,就可在F20的基礎上升級為新一代的F70膜厚測量儀。鏡頭配件厚度范圍(Index=)精度光斑大小UPG-F70-SR-KIT15nm-50μmnm標配mm(可選配下至20μm)LA-CTM-VIS-1mm50μmmμm5μm150μmmμm10μm產品應用,在可測樣品基底上有了極大的飛躍:●幾乎所有材料表面上的鍍膜都可以測量,即使是藥片,木材或紙張等粗糙的非透明基底。●玻璃或塑料的板材、管道和容器。●光學鏡頭和眼科鏡片。Filmetrics光學膜厚測量儀經驗**無出其右Filmetrics光學膜厚測量儀經驗**無出其右Filmetrics光學膜厚測量儀經驗**無出其右Filmetrics光學膜厚測量儀經驗**無出其右Filmetrics光學膜厚測量儀經驗**無出其右Filmetrics光學膜厚測量儀經驗**無出其右。 F30測厚范圍:15nm-70μm;波長:380-1050nm。Filmetrics F3-SX膜厚儀有誰在用

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F10-HC輕而易舉而且經濟有效地分析單層和多層硬涂層F10-HC以FilmetricsF20平臺為基礎,根據光譜反射數據分析快速提供薄膜測量結果。F10-HC先進的模擬算法是為測量聚碳酸酯和其它單層和多層硬涂層(例如,底涂/硬涂層)專門設計的。全世界共有數百臺F10-HC儀器在工作,幾乎所有主要汽車硬涂層公司都在使用它們。像我們所有的臺式儀器一樣,F10-HC可以連接到您裝有Windows計算機的USB端口并在幾分鐘內完成設定。包含的內容:集成光譜儀/光源裝置FILMeasure8軟件FILMeasure讀立軟件(用于遠程數據分析)CP-1-1.3探頭BK7參考材料TS-Hardcoat-4um厚度標準備用燈額外的好處:應用工程師可立刻提供幫助(周一-周五)網上的“手把手”支持(需要連接互聯網)硬件升級計劃。Filmetrics F3-SX膜厚儀有誰在用適用于所有可讓紅外線通過的材料 硅、藍寶石、砷化鎵、磷化銦、碳化硅、玻璃、石 英、聚合物等。

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Filmetrics 的技術Filmetrics 提供了范圍廣范的測量生物醫療涂層的方案:支架: 支架上很小的涂層區域通常需要顯微鏡類的儀器。 我們的 F40 在幾十個實驗室內得到使用,測量鈍化和/或藥 物輸送涂層。我們有獨特的測量系統對整個支架表面的自動厚度測繪,只需在測量時旋轉支架。植入件: 在測量植入器件的涂層時,不規則的表面形狀通常是為一挑戰。 Filmetrics 提供這一用途的全系列探頭。導絲和導引針: 和支架一樣,這些器械常常可以用象 F40 這樣的顯微鏡儀器。導液管和血管成型球囊的厚度:大于 100 微米的厚度和可見光譜不透明性決定了 F20-NIR 是這一用途方面全世界眾多實驗室內很受歡迎的儀器。

F10-AR無須處理涂層背面我們探頭設計能抑制1.5mm厚基板98%的背面反射,使用更厚的鏡頭抑制的更多。就像我們所有的臺式儀器一樣,F10-AR需要連接到您裝有Windows計算機的USB端口上并在數分鐘內即可完成設定。包含的內容:集成光譜儀/光源裝置FILMeasure8軟件FILMeasure獨力軟件(用于遠程數據分析)CP-1-1.3探頭BK7參考材料整平濾波器(用于高反射基板)備用燈額外的好處:每臺系統內建超過130種材料庫,隨著不同應用更超過數百種應用工程師可立刻提供幫助(周一-周五)網上的“手把手”支持(需要連接互聯網)硬件升級計劃。基本上所有光滑的、半透明的或低吸收系數的薄膜都可以測量。

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Filmetrics的技術Filmetrics提供了范圍廣范的測量生物醫療涂層的方案:支架:支架上很小的涂層區域通常需要顯微鏡類的儀器。我們的F40在幾十個實驗室內得到使用,測量鈍化和/或藥物輸送涂層。我們有獨特的測量系統對整個支架表面的自動厚度測繪,只需在測量時旋轉支架。植入件:在測量植入器件的涂層時,不規則的表面形狀通常是為一挑戰。Filmetrics提供這一用途的全系列探頭。導絲和導引針:和支架一樣,這些器械常常可以用像F40這樣的顯微鏡儀器。導液管和血管成型球囊的厚度:大于100微米的厚度和可見光譜不透明性決定了F20-NIR是這一用途方面全世界眾多實驗室內很受歡迎的儀器。Filmetrics 提供一系列的和測繪系統來測量 3nm 到 1mm 的單層、 多層、 以及單獨的光刻膠薄膜。硬涂層膜厚儀半導體行業

F30 系列是監控薄膜沉積,蕞強有力的工具。Filmetrics F3-SX膜厚儀有誰在用

電介質成千上萬的電解質薄膜被用于光學,半導體,以及其它數十個行業, 而Filmetrics的儀器幾乎可以測量所有的薄膜。常見的電介質有:二氧化硅 – ZUI簡單的材料之一, 主要是因為它在大部分光譜上的無吸收性 (k=0), 而且非常接近化學計量 (就是說,硅:氧非常接近 1:2)。 受熱生長的二氧化硅對光譜反應規范,通常被用來做厚度和折射率標準。 Filmetrics能測量3nm到1mm的二氧化硅厚度。氮化硅 – 對此薄膜的測量比很多電介質困難,因為硅:氮比率通常不是3:4, 而且折射率一般要與薄膜厚度同時測量。 更麻煩的是,氧常常滲入薄膜,生成一定程度的氮氧化硅,增大測量難度。 但是幸運的是,我們的系統能在幾秒鐘內 “一鍵” 測量氮化硅薄膜完整特征!Filmetrics F3-SX膜厚儀有誰在用

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