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光學系數膜厚儀液晶顯示行業

來源: 發布時間:2021-07-10

樣品視頻包括硬件和照相機的F20系統視頻。視頻實時顯示精確測量點。 不包括SS-3平臺。SampleCam-sXsX探頭攝像機包含改裝的sX探頭光學配件,但不包含平臺。StageBase-XY8-Manual-40mm8“×8” 樣品平臺,具有SS-3鏡頭與38mm的精密XY平移聚焦平臺。能夠升級成電動測繪與自動對焦。StageBase-XY10-Auto-100mm10“×10” 全電動樣品平臺??梢赃M行100mm高精度XY平移,包括自動焦距調節。SS-Microscope- UVX-1顯微鏡(15倍反射式物鏡)及X-Y平臺。 包含UV光源與照明光纖。SS-Microscope- EXR-1顯微鏡包含X- Y平臺及照明光纖. 需另選購物鏡. 通常使用顯微鏡內建照明。SS-Trans-Curved用于平坦或彎曲表面的透射平臺,包括光纖,和 F10-AR 一起使用。 波長范圍 250nm -2500nm。T-1SS-3 平臺的透射測量可選件。包括光纖、平臺轉接器和平臺支架。 用于平坦的樣品。WS-300用于小于 300mm 樣品的平移旋轉平臺。測量SU-8 其它厚光刻膠的厚度有特別重要的應用。光學系數膜厚儀液晶顯示行業

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銦錫氧化物與透明導電氧化物液晶顯示器,有機發光二極管變異體,以及絕大多數平面顯示器技術都依靠透明導電氧化物 (TCO) 來傳輸電流,并作每個發光元素的陽極。 和任何薄膜工藝一樣,了解組成顯示器各層物質的厚度至關重要。 對于液晶顯示器而言,就需要有測量聚酰亞胺和液晶層厚度的方法,對有機發光二極管而言,則需要測量發光、電注入和封裝層的厚度。

在測量任何多個層次的時候,諸如光譜反射率和橢偏儀之類的光學技術需要測量或建模估算每一個層次的厚度和光學常數 (反射率和 k 值)。

不幸的是,使得氧化銦錫和其他透明導電氧化物在顯示器有用的特性,同樣使這些薄膜層難以測量和建模,從而使測量在它們之上的任何物質變得困難。Filmetrics 的氧化銦錫解決方案Filmetrics 已經開發出簡便易行而經濟有效的方法,利用光譜反射率精確測量氧化銦錫。 將新型的氧化銦錫模式和 F20-EXR, 很寬的 400-1700nm 波長相結合,從而實現氧化銦錫可靠的“一鍵”分析。 氧化銦錫層的特性一旦得到確定,剩余顯示層分析的關鍵就解決了。


光學系數膜厚儀液晶顯示行業可見光可測試的深度,良好的厚樣以及多層樣品的局部應力。

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F40 系列將您的顯微鏡變成薄膜測量工具F40 產品系列用于測量小到 1 微米的光斑。 對大多數顯微鏡而言,F40 能簡單地固定在 c 型轉接器上,這樣的轉接器是顯微鏡行業標準配件。

F40 配備的集成彩色攝像機,能夠對測量點進行準確監控。 在 1 秒鐘之內就能測定厚度和折射率。 像我們所有的臺式儀器一樣,F40 需要連接到您裝有 Windows 計算機的 USB 端口上并在數分鐘內完成設定。

F40:20nm-40μm 400-850nm

F40-EXR:20nm-120μm 400-1700nm

F40-NIR:40nm-120μm 950-1700nm

F40-UV:4nm-40μm 190-1100nm

F40-UVX:4nm-120μm 190-1700nm

    其可測量薄膜厚度在1nm到1mm之間,測量精度高達1埃,測量穩定性高達,測量時間只需一到二秒,并有手動及自動機型可選??蓱妙I域包括:生物醫學(Biomedical),液晶顯示(Displays),硬涂層(Hardcoats),金屬膜(Metal),眼鏡涂層(Ophthalmic),聚對二甲笨(Parylene),電路板(PCBs&PWBs),多孔硅(PorousSilicon),光阻材料(ThickResist),半導體材料(Semiconductors),太陽光伏(Solarphotovoltaics),真空鍍層(VacuumCoatings),圈筒檢查(Webinspectionapplications)等。通過Filmetrics膜厚測量儀*新反射式光譜測量技術,*多4層透明薄膜厚度、n、k值及粗糙度能在數秒鐘測得。其應用***,例如:半導體工業:光阻、氧化物、氮化物。LCD工業:間距(cellgaps),ito電極、polyimide保護膜。光電鍍膜應用:硬化鍍膜、抗反射鍍膜、過濾片。極易操作、快速、準確、機身輕巧及價格便宜為其主要優點,Filmetrics提供以下型號以供選擇:F20:這簡單入門型號有三種不同波長選擇(由220nm紫外線區至1700nm近紅外線區)為任意攜帶型,可以實現反射、膜厚、n、k值測量。F30:這型號可安裝在任何真空鍍膜機腔體外的窗口。可實時監控長晶速度、實時提供膜厚、n、k值。并可切定某一波長或固定測量時間間距。F50-XT測厚范圍:0.2μm-450μm;波長:1440-1690nm。

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    光纖紫外線、可見光譜和近紅外備用光纖。接觸探頭是相當堅固的,但是光纖不能經常被抽屜碰撞或者被椅子壓過。該套件包括指令,以及簡單的維修工具,新的和舊風格的探頭。FO-PAT-SMA-SMA-200-22米長,直徑200um的光纖,兩端配備SMA接頭。米長,分叉反射探頭。

通用附件攜帶箱等。手提電腦手提電腦預裝FILMeasure軟件、XP和Microsoft辦公軟件。

電腦提箱用于攜帶F10、F20、F30和F40系統的提箱。ConflatFeedthrough真空穿通,"conflat、雙出入孔SMA,并通過泄漏測試。LensPaper-CenterHole**開孔鏡頭紙,用于保護面朝下的樣品,5本各100張。 不同的 F50 儀器是根據波長范圍來加以區分的。光學系數膜厚儀液晶顯示行業

F3-s980 是波長為980奈米的版本,是為了針對成本敏銳的應用而設計。光學系數膜厚儀液晶顯示行業

電介質成千上萬的電解質薄膜被用于光學,半導體,以及其它數十個行業, 而Filmetrics的儀器幾乎可以測量所有的薄膜。 

測量范例氮化硅薄膜作為電介質,鈍化層,或掩膜材料被廣泛應用于半導體產業。這個案例中,我們用F20-UVX成功地測量了硅基底上氮化硅薄膜的厚度,折射率,和消光系數。有趣的事,氮化硅薄膜的光學性質與薄膜的分子當量緊密相關。使用Filmetrics專有的氮化硅擴散模型,F20-UVX可以很容易地測量氮化硅薄膜的厚度和光學性質,不管他們是富硅,貧硅,還是分子當量。 光學系數膜厚儀液晶顯示行業

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